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1. (WO2002027408) DYNAMIC MASK PROJECTION STEREO MICRO LITHOGRAPHY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2002/027408    International Application No.:    PCT/US2001/030604
Publication Date: 04.04.2002 International Filing Date: 27.09.2001
Chapter 2 Demand Filed:    25.02.2002    
IPC:
B29C 67/00 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF CALIFORNIA [US/US]; 1111 Franklin Street 12th floor Oakland, CA 94607 (US) (For All Designated States Except US).
ZHANG, Xiang [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: ZHANG, Xiang; (US)
Agent: BERLINER, Robert; Fulbright & Jaworski L.L.P. 29th floor 865 South Figueroa Street Los Angeles, CA 90017-2571 (US)
Priority Data:
60/235,799 27.09.2000 US
Title (EN) DYNAMIC MASK PROJECTION STEREO MICRO LITHOGRAPHY
(FR) MICROSTEREOLITHOGRAPHIE PAR PROJECTION DE MASQUE DYNAMIQUE
Abstract: front page image
(EN)Three-dimensional structures are fabricated by a process in which a 3D solid model is designed by software at a PC and sliced into a series of 2D layers. Each 2D layer is displayed at a dynamic mask via micro-mirror deflections projected onto a photoresist to form a layer, which is lowered and the process is repeated to build the object layer by layer.
(FR)On fabrique des structures tridimensionnelles au moyen d'un procédé dans lequel un modèle solide tridimensionnel est conçu par un logiciel dans un ordinateur personnel puis découpé en une série de couches à deux dimensions. Chaque couche à deux dimensions est présentée sur un masque dynamique par l'intermédiaire de déflexions de micromiroirs, projetées sur une photorésine pour former une couche, qui est réduite en hauteur, ledit procédé étant répété pour construire l'objet couche par couche.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)