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1. (WO2002027405) ILLUMINATION SYSTEM PARTICULARLY FOR MICROLITHOGRAPHY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2002/027405    International Application No.:    PCT/EP2001/011224
Publication Date: 04.04.2002 International Filing Date: 28.09.2001
Chapter 2 Demand Filed:    24.04.2002    
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G21K 1/06 (2006.01), G21K 5/04 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS [DE/DE]; 89518 Heidenheim (DE) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GR, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR, US only).
CARL-ZEISS-STIFTUNG TRADING AS CARL ZEISS [DE/DE]; 89518 Heidenheim (DE) (GB, IE, JP only).
ANTONI, Martin [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SINGER, Wolfgang [DE/DE]; (DE) (For US Only).
WANGLER, Johannes [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: ANTONI, Martin; (DE).
SINGER, Wolfgang; (DE).
WANGLER, Johannes; (DE)
Agent: DR. WEITZEL & PARTNER; Friedenstrasse 10, 89522 Heidenheim (DE)
Priority Data:
09/679,718 29.09.2000 US
201 00 123.3 05.01.2001 DE
101 00 265.3 08.01.2001 DE
Title (EN) ILLUMINATION SYSTEM PARTICULARLY FOR MICROLITHOGRAPHY
(FR) SYSTEME D'ECLAIRAGE, EN PARTICULIER POUR LA MICROLITHOGRAPHIE
Abstract: front page image
(EN)The invention concerns an illumination system, particularly for microlithography with wavelengths $m(F) 193 nm, comprising: a primary light source; a first optical component; a second optical component; an image plane; and an exit pupil, wherein said first optical component transforms said primary light source into a plurality of secondary light sources that are imaged by said second optical component in said exit pupil, wherein said first optical component includes a first optical element having a plurality of first raster elements that are imaged into said image plane, producing a plurality of images being superimposed, at least partially, on a field in said image plane, wherein said first optical component comprises a collector unit and a second optical element having a plurality of second raster elements, said illumination system further comprising: a first optical axis between said collector unit and said first optical element, wherein said first optical element is reflective; a second optical axis between said first optical element and said second optical element, wherein said second optical element is reflective; and a third optical axis between said second optical element and said second optical component, wherein the directional vector of the first optical axis and the directional vector of the second optical axis define a plane and wherein said first and second optical elements are tilted to cause a crossing of the projection of said third optical axis in to said plane and said first optical axis.
(FR)La présente invention concerne un système d'éclairage, en particulier pour la microlithographie avec des longueurs d'ondes $m(F) 193 nm. Ce système comprend une source de lumière primaire, un premier composant optique, un deuxième composant optique, un plan d'image et une pupille de sortie. Ledit premier composant optique transforme la source de lumière primaire en une pluralité de sources de lumière secondaires qui sont imagées par ledit deuxième composant optique dans la pupille de sortie. Le premier composant optique comprend un premier élément optique avec une pluralité de premiers éléments de canevas qui sont imagés dans ledit plan d'image et produisent plusieurs images superposées, au moins partiellement sur un champ dans ledit plan d'image. Ledit premier composant optique comprend une unité de collecteur et un deuxième élément optique avec une pluralité de deuxièmes éléments de canevas. Ce système d'éclairage comprend également un premier axe optique entre ledit collecteur et ledit premier élément optique, ce dernier étant réflecteur ; un deuxième axe optique entre le premier élément optique et le deuxième élément optique, ce dernier étant réflecteur également, et un troisième axe optique entre le deuxième élément optique et le deuxième composant optique. Le vecteur de direction du premier axe optique et le vecteur de direction du deuxième axe optique définissent un plan et les premier et deuxième éléments optiques sont basculés pour provoquer un croisement de la projection du troisième axe optique dans le dit plan et ledit premier axe optique.
Designated States: JP, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)