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1. (WO2002027402) ILLUMINATION SYSTEM PARTICULARLY FOR MICROLITHOGRAPHY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2002/027402    International Application No.:    PCT/EP2001/011273
Publication Date: 04.04.2002 International Filing Date: 28.09.2001
Chapter 2 Demand Filed:    24.04.2002    
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G21K 1/06 (2006.01), G21K 5/04 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS [DE/DE]; 89518 Heidenheim (DE) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GR, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR only).
CARL-ZEISS-STIFTUNG TRADING AS CARL ZEISS [DE/DE]; 89518 Heidenheim (DE) (GB, IE, JP only).
ANTONI, Martin [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SINGER, Wolfgang [DE/DE]; (DE) (For US Only).
WANGLER, Johannes [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: ANTONI, Martin; (DE).
SINGER, Wolfgang; (DE).
WANGLER, Johannes; (DE)
Agent: DR. WEITZEL & PARTNER; Friedenstrasse 10, 89522 Heidenheim (DE)
Priority Data:
09/679,718 29.09.2000 US
Title (EN) ILLUMINATION SYSTEM PARTICULARLY FOR MICROLITHOGRAPHY
(FR) SYSTEME D'ECLAIRAGE DESTINE NOTAMMENT A LA MICROLITHOGRAPHIE
Abstract: front page image
(EN)The invention concerns an illumination system, particularly for microlithography with wavelengths $m(F) 193 nm, comprising: a primary light; a first optical component; a second optical; an image plane component; and an exit pupil; wherein said first optical component transforms said primary light source into a plurality of secondary light sources that are imaged by said second optical component in said exit pupil; wherein said first optical component includes a first optical element having a plurality of first raster elements, that are imaged into said image plane producing a plurality of images being superimposed at least partially on a field in said image plane, wherein said plurality of first raster elements have negative optical power.
(FR)L'invention concerne un système d'éclairage, destiné notamment à la microlithographie à des longueurs d'ondes de $m(F) 193 nm. Ce système comprend une première lumière, un premier composant optique, un second composant optique, un composant de plan d'image et une pupille de sortie, et il est caractérisé en ce que le premier composant optique transforme la première source de lumière en plusieurs sources de lumière secondaires qui sont imagées, dans la pupille de sortie, par le second composant optique, en ce que le premier composant optique comprend un premier élément optique doté de plusieurs premiers éléments matriciels, lesquels sont imagés dans le plan de l'image, produisant ainsi plusieurs images superposées au moins partiellement sur un champ, dans le plan d'image, et en ce que ce premier groupe d'éléments matriciels possède une puissance négative optique.
Designated States: JP, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)