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1. (WO2002027401) ILLUMINATION SYSTEM PARTICULARLY FOR MICROLITHOGRAPHY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2002/027401    International Application No.:    PCT/EP2001/011248
Publication Date: 04.04.2002 International Filing Date: 28.09.2001
Chapter 2 Demand Filed:    24.04.2002    
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G21K 1/06 (2006.01), G21K 5/04 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS [DE/DE]; 89518 Heidenheim (DE) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GR, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR only).
CARL-ZEISS-STIFTUNG TRADING AS CARL ZEISS [DE/DE]; 89518 Heidenheim (DE) (GB, IE, JP, KR only).
ANTONI, Martin [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SINGER, Wolfgang [DE/DE]; (DE) (For US Only).
WANGLER, Johannes [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: ANTONI, Martin; (DE).
SINGER, Wolfgang; (DE).
WANGLER, Johannes; (DE)
Agent: DR. WEITZEL & PARTNER; Friedenstrasse 10, 89522 Heidenheim (DE)
Priority Data:
09/679,718 29.09.2000 US
Title (EN) ILLUMINATION SYSTEM PARTICULARLY FOR MICROLITHOGRAPHY
(FR) DISPOSITIF D'ECLAIRAGE, EN PARTICULIER POUR MICROLITHOGRAPHIE
Abstract: front page image
(EN)The invention concerns an illumination system, particularly for microlithography with wavelengths < 193 nm, comprising: a primary light source; a first optical component; a second optical component; an image plane; and an exit pupil; wherein said first optical component transforms said primary light source into a plurality of secondary light sources that are imaged by said second optical component in said exit pupil, wherein said first optical component includes a first optical element having a plurality of first raster elements, that are imaged into said image plane producing a plurality of images being superimposed at least partially on a field in said image plane, wherein said first raster elements that are image into the image plane are illuminated almost completely.
(FR)L'invention concerne un dispositif d'éclairage, en particulier pour microlithographie de longueur d'onde $m(F) 193 nm, comprenant une source lumineuse primaire, un premier composant optique, un second composant optique, un plan image et une pupille de sortie, caractérisé en ce que ledit premier composant optique transforme ladite première source lumineuse primaire en une pluralité de sources lumineuses secondaires qui sont imagées par le second composant optique dans ladite pupille de sortie, en ce que le premier composant optique comprend un premier élément optique ayant une pluralité de premiers éléments de trame qui sont imagés dans ledit plan image, ce qui produit une pluralité d'images qui sont superposées au moins partiellement sur un champ dans ledit plan image, et en ce que lesdits premiers éléments de trame qui sont imagés dans le plan image sont éclairés presque complètement.
Designated States: JP, KR, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)