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1. (WO2002027062) PLASMA PROCESSING SYSTEM WITH GAS PERMEABLE ELECTRODE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2002/027062    International Application No.:    PCT/US2001/030293
Publication Date: 04.04.2002 International Filing Date: 27.09.2001
Chapter 2 Demand Filed:    29.04.2002    
IPC:
H01J 37/32 (2006.01)
Applicants: LEBAR, Tony [US/US]; (US)
Inventors: LEBAR, Tony; (US).
DAVIES, John, T.; (US).
MCOMBER, Janice, I.; (US)
Agent: WRIGHT, Edward, S.; Flehr Hohbach Test Albritton & Herbert LLP, Suite 3400, Four Embarcadero Center, San Francisco, CA 94111-4187 (US)
Priority Data:
09/677,091 29.09.2000 US
Title (EN) PLASMA PROCESSING SYSTEM WITH GAS PERMEABLE ELECTRODE
(FR) SYSTEME DE TRAITEMENT DE PLASMA DOTE D'UNE ELECTRODE PERMEABLE AU GAZ
Abstract: front page image
(EN)Plasma processing system and electrode structure in which the electrode is highly permeable to the plasma so that the ionized gas can pass freely through the electrode to get to the workpiece. The electrode has a honeycomb structure with triangular openings separated by thin webs of sufficient height to impart torsional rigidity to the electrode. The electrode is loosely mounted in blocks which permit it to expand and contract with changes in temperature, and it has an outer peripheral portion which is segmented to accommodate thermal expansion. Sputtering problems are minimized by coating the electrode with a sacrificial material or a material which is less harmful to the plasma process.
(FR)L'invention concerne un système et une structure d'électrode de traitement de plasma dans laquelle l'électrode est fortement perméable au plasma, de manière à ce que le gaz ionisé puisse passer librement par l'électrode afin d'atteindre la pièce. L'électrode présente une structure en nid d'abeille dotée d'ouvertures triangulaires séparées par de fines toiles de hauteur suffisante pour imprimer une rigidité de torsion à l'électrode. L'électrode est montée, de manière non rigide, en blocs, ce qui lui permet de s'étirer et d'accepter des changements de température. D'autre part, l'électrode possède une partie périphérique externe segmentée afin d'admettre le développement thermique. Les problèmes de pulvérisation sont réduits au minimum grâce au revêtement de l'électrode par un matériau sacrificiel ou un matériau moins agressif pour le procédé de plasma.
Designated States: JP, KR.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)