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1. (WO2002027061) PROCESS CHAMBER LID
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2002/027061    International Application No.:    PCT/US2001/029889
Publication Date: 04.04.2002 International Filing Date: 24.09.2001
Chapter 2 Demand Filed:    19.04.2002    
IPC:
C23C 16/44 (2006.01), H01L 21/687 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; P.O. Box 450A, Santa Clara, CA 95052 (US)
Inventors: KURITA, Shinichi; (US).
BLONIGAN, Wendell, T.; (US)
Agent: BERNADICOU, Michael, A.; Blakely, Sokoloff, Taylor & Zafman LLP, 7th Floor, 12400 Wilshire Boulevard, Los Angeles, CA 90025 (US)
Priority Data:
09/671,504 26.09.2000 US
Title (EN) PROCESS CHAMBER LID
(FR) INSTALLATION D'OUVERTURE SOUS FORME DE COUVERCLE DESTINEE A UNE CHAMBRE DE TRAITEMENT
Abstract: front page image
(EN)Provided herein is a lid assembly for chemical vapor deposition (CVD) process chamber, comprising a moveable lid (108), two linear guide rollers (102) connected to the lid, one or more linear lifting actuators (101), and a rotation actuator (106) connected to the axis of the lid. This lid assembly may be used for opening/closing process chamber as well as wet-cleaning process chamber in chemical vapor deposition.
(FR)L'invention concerne un assemblage de couvercle destiné à une chambre de traitement par dépôt chimique en phase vapeur (CVD), comprenant un couvercle mobile, deux rouleaux guides linéaires qui sont reliés au couvercle, un ou plusieurs actionneurs de levage et un actionneur de rotation reliés à l'axe du couvercle. L'assemblage de couvercle peut être utilisé pour ouvrir/fermer la chambre de traitement, ainsi que pour nettoyer par voie humide la chambre de traitement dans un dépôt chimique en phase vapeur.
Designated States: CN, JP, KR, SG.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)