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1. (WO2002026162) A METHOD OF LOADING A SUBSTANCE ONTO AN IMPLANTABLE DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2002/026162    International Application No.:    PCT/US2001/027627
Publication Date: 04.04.2002 International Filing Date: 05.09.2001
Chapter 2 Demand Filed:    03.04.2002    
IPC:
A61F 2/91 (2013.01), A61F 2/915 (2013.01), A61L 31/10 (2006.01), A61L 31/16 (2006.01), A61F 2/00 (2006.01)
Applicants: ADVANCED CARDIOVASCULAR SYSTEMS, INC. [US/US]; 3200 Lakeside Drive, Santa Clara, CA 95054 (US)
Inventors: HARISH, Sameer; (US).
WU, Steven, Z.; (US)
Agent: KERRIGAN, Cameron; Squire, Sanders & Dempsey, L.L.P., 600 Hansen Way, Palo Alto, CA 94304-1043 (US)
Priority Data:
09/671,759 26.09.2000 US
Title (EN) A METHOD OF LOADING A SUBSTANCE ONTO AN IMPLANTABLE DEVICE
(FR) PROCEDE DE CHARGEMENT D'UNE SUBSTANCE SUR UN DISPOSITIF IMPLANTABLE
Abstract: front page image
(EN)Methods of loading a substance onto an implantable device are disclosed. The implantable device may be a stent or a graft, with or without depots formed within an outer surface thereof. An exemplary method includes the act of projecting particles of the substance from a pressurized particle source onto a preselected region of the implantable device. An implantable device loaded with a substance in accordance with the method is also provided. The projected particles may be made of any substance or substances suitable for loading onto an implantable device in solid form including, but not limited to, therapeutic substances or agents, radioisotopes, radiopaque substances, polymers, proteins, and nucleic acids. Also provided is a method of loading a substance onto a stent having an outer surface with a plurality of depots formed therein. The method includes the act of projecting particles including the substance from a pressurized particle source onto the outer surface of the stent, wherein the particles are loaded into the plurality of depots. A stent loaded with a substance in accordance with the method is also provided.
(FR)L'invention concerne des procédés permettant de charger une substance sur un dispositif implantable, lequel peut être un extenseur ou un greffon, avec ou sans dépôts formés à l'intérieur d'une surface de ce dernier. Dans un mode de réalisation, l'invention concerne un procédé qui consiste à projeter des particules de la substance à partir d'une source de particules sous pression sur une région présélectionnée du dispositif implantable. L'invention concerne en outre un dispositif implantable chargé d'une telle substance conformément à ce procédé. Les particules projetées peuvent être de n'importe quelle substance que l'on peut charger sur le dispositif implantable sous forme solide, notamment des substances ou agents thérapeutiques, des radio-isotopes, des substances opacifiantes, des polymères, des protéines et des acides nucléiques. L'invention concerne également un procédé permettant de charger une substance sur un extenseur dont la surface externe comporte une pluralité de dépôts. Le procédé consiste à projeter, à partir d'une source de particules sous pression, des particules comprenant la substance sur la surface externe de l'extenseur, les particules étant chargées dans la pluralité de dépôts. L'invention traite enfin d'un extenseur chargé d'une substance conformément au procédé.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)