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1. (WO2002005312) AUTOMATED SEMICONDUCTOR IMMERSION PROCESSING SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2002/005312    International Application No.:    PCT/US2001/018895
Publication Date: 17.01.2002 International Filing Date: 11.06.2001
Chapter 2 Demand Filed:    22.01.2002    
IPC:
B65B 21/02 (2006.01)
Applicants: SEMITOOL, INC. [US/US]; 655 West Reserve Drive, Kalispell, MT 59901 (US)
Inventors: HARRIS, Randy; (US).
PETERSON, David; (US).
DAVIS, Jeffry; (US)
Agent: OHRINER, Kenneth, H.; Lyon & Lyon LLP, P00-0015, Suite 4700, 633 West Fifth Street, Los Angeles, CA 90071-2066 (US)
Priority Data:
09/611,507 07.07.2000 US
Title (EN) AUTOMATED SEMICONDUCTOR IMMERSION PROCESSING SYSTEM
(FR) SYSTEME DE TRAITEMENT AUTOMATISE DE SEMI-CONDUCTEURS PAR IMMERSION
Abstract: front page image
(EN)A process system for processing semiconductor wafers includes a stocker module, and immersion module, and a process module. A process robot moves on a lateral rail to transfer wavers between the modules. The immersion module is separated from the other modules, to avoid transmission of vibration. Immersion tanks are radially positioned within the immersion module, to provide a compact design. An immersion robot moves batches of wafers on an end effector between the immersion tanks. The end effector may be detachable from the immersion robot, so that the immersion robot can move a second batch of wafers, while the first batch of wafers undergoes an immersion process.
(FR)L'invention concerne un système de traitement destiné à traiter des plaquettes semi-conductrices comprenant un module de stockage, un module d'immersion, et un module de traitement. Un robot de production se déplace sur un rail pour transférer les plaquettes entre les modules. Le module d'immersion est séparé des autres modules afin d'éviter une transmission de vibration. Des réservoirs d'immersion sont positionnés radialement à l'intérieur du module d'immersion, pour permettre d'obtenir un système compact. Un robot d'immersion déplace des lots de plaquettes sur un effecteur final entre les réservoirs d'immersion. Cet effecteur final peut être détachable du robot d'immersion, de telle sorte que ce dernier puisse déplacer un second lot de plaquettes, pendant que le premier lot de plaquettes subit un traitement d'immersion.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)