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1. (WO2002004695) THIN FILM PROCESSING SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2002/004695    International Application No.:    PCT/US2001/021517
Publication Date: 17.01.2002 International Filing Date: 09.07.2001
Chapter 2 Demand Filed:    07.02.2002    
IPC:
C23C 14/04 (2006.01), C23C 14/46 (2006.01)
Applicants: OPNETICS CORPORATION [US/US]; 2 Centennial Drive, Suite 4A, Peabody, MA 01960 (US) (For All Designated States Except US).
SFERLAZZO, Piero [IT/US]; (US) (For US Only).
LEE, Chunghsin [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: SFERLAZZO, Piero; (US).
LEE, Chunghsin; (US)
Agent: RAUSCHENBACH, Kurt; Law Office of Kurt Rauschenbach, Post Office Box 387, Bedford, MA 01730 (US)
Priority Data:
60/217,049 10.07.2000 US
09/840,394 23.04.2001 US
Title (EN) THIN FILM PROCESSING SYSTEM
(FR) SYSTEME DE TRAITEMENT D'UNE COUCHE MINCE A DOUBLE BALAYAGE
Abstract: front page image
(EN)The deposition system (100) includes a deposition source (114) that generates deposition flux (114) comprising neutral atoms and molecules. A shield (102) defining an aperture (103) is positioned in the path of the deposition flux. The shield passes the deposition flux though the aperture and substantially blocks the deposition flux from propagating past the shield everywhere else. A substrate support (116) is positioned adjacent to the shield. A dual-scanning system (122) scans the substrate support relative to the aperture with a first and a second motion.
(FR)L'invention concerne un système de dépôt comprenant une source de dépôt qui génère un flux de dépôt renfermant des atomes et des molécules neutres. Un écran définissant une ouverture est positionné dans la trajectoire dudit flux de dépôt. L'écran fait passer le flux de dépôt par l'ouverture et empêche sensiblement le flux de dépôt de se propager n'importe où au-delà de l'écran. Un porte-substrat est disposé adjacent à l'écran. Un système à double balayage balaye le porte-substrat par rapport à l'ouverture selon un premier et un second mouvement.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)