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1. (WO2002004114) ELECTROMAGNETIC WAVE ASSISTED CHEMICAL PROCESSING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2002/004114 International Application No.: PCT/US2001/015258
Publication Date: 17.01.2002 International Filing Date: 10.05.2001
Chapter 2 Demand Filed: 28.11.2001
IPC:
B01F 7/00 (2006.01) ,B01F 13/00 (2006.01) ,B01J 19/08 (2006.01) ,B01J 19/10 (2006.01) ,B01J 19/12 (2006.01) ,B01J 19/18 (2006.01) ,C02F 1/30 (2006.01) ,C02F 1/32 (2006.01) ,C02F 1/36 (2006.01)
Applicants: HOLL, Richard, A.[CA/US]; US
HOLL TECHNOLOGIES COMPANY[US/US]; 1140 Avenida Acaso Camarillo, CA 93012, US (AllExceptUS)
Inventors: HOLL, Richard, A.; US
Agent: DARROW, Christopher ; Greenberg Traurig LLP 2450 Colorado Avenue, Suite 400E Santa Monica, CA 90404, US
Priority Data:
60/202,90610.05.2000US
60/214,53827.06.2000US
Title (EN) ELECTROMAGNETIC WAVE ASSISTED CHEMICAL PROCESSING
(FR) TRAITEMENT CHIMIQUE ASSISTE PAR ONDES ELECTROMAGNETIQUES
Abstract: front page image
(EN) A window allows the introduction of radiation energy into an annular processing chamber (44) filled with a material to be processed. The chamber is formed from coaxial cylinder members (30,32) rapidly rotating relative to one another. The chamber (44) can be thin enough so that it is short compared to the penetration depth of the radiation through the material, providing even exposure of the material to the radiation. Also, eddies created in the material by the relative rotation enhances the even exposure. When the material inside the annular processing chamber (44) is opaque, resulting in an insignificant penetration depth, the eddies still insure that the material is evenly exposed to the irradiation.
(FR) L'invention concerne une fenêtre permettant d'introduire de l'énergie de rayonnement dans une chambre de traitement annulaire remplie d'une matière à traiter. La chambre est formée d'éléments cylindriques coaxiaux tournant rapidement les uns par rapport aux autres. La chambre peut être assez mince de façon à être de faible dimension par rapport à la profondeur de pénétration du rayonnement à travers la matière, permettant ainsi d'exposer la matière au rayonnement de manière uniforme. Les fluctuations créées dans la matière par la rotation relative permettent d'obtenir une meilleure uniformité d'exposition. Lorsque la matière à l'intérieur de la chambre de traitement annulaire est opaque, résultant en une profondeur de pénétration insignifiante, les fluctuations garantissent quand même l'exposition uniforme de la matière au rayonnement.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)