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1. (WO2001091523) EXTREME ULTRAVIOLET SOURCE BASED ON COLLIDING NEUTRAL BEAMS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/091523    International Application No.:    PCT/US2001/015972
Publication Date: 29.11.2001 International Filing Date: 17.05.2001
Chapter 2 Demand Filed:    26.11.2001    
IPC:
H05G 2/00 (2006.01)
Applicants: PLEX LLC [US/US]; 20 Chapel Street C512 Brookline, MA 02446-5478 (US)
Inventors: MCGEOCH, Malcolm, W.; (US)
Agent: MCCLELLAN, William, R.; Wolf, Greenfield & Sacks, P.C. 600 Atlantic Avenue Boston, MA 02210 (US)
Priority Data:
60/206,130 22.05.2000 US
09/815,633 23.03.2001 US
Title (EN) EXTREME ULTRAVIOLET SOURCE BASED ON COLLIDING NEUTRAL BEAMS
(FR) SOURCE D'ULTRAVIOLETS EXTREMES UTILISANT LA COLLISION DE FAISCEAUX NEUTRES
Abstract: front page image
(EN)A source of photons includes a discharge chamber, a plurality of ion beam sources in the discharge chamber and a neutralizing mechanism. Each of the ion beam sources electrostatically accelerates a beam of ions of a working gas toward a plasma discharge region. The neutralizing mechanism at least partially neutralizes the ion beams before they enter the plasma discharge region. The neutralized beams enter the plasma discharge region and form a hot plasma that radiates photons. The photons may be in the soft X-ray or extreme ultraviolet wavelength range and, in one embodiment, have wavelengths in a range of about 10-15 nanometers.
(FR)L'invention se rapporte à une source de photons comprenant une chambre de décharge, une pluralité de sources de faisceaux ioniques disposées dans la chambre de décharge et un mécanisme de neutralisation. Chacune des sources de faisceaux ioniques accélère de manière électrostatique un faisceau d'ions d'un gaz de traitement en direction d'une région de décharge de plasma . Le mécanisme de neutralisation neutralise au moins partiellement les faisceaux ioniques avant que ceux-ci ne pénètrent dans la région de décharge. Les faisceaux neutralisés pénètrent dans la région de décharge de plasma et forment un plasma chaud qui rayonne des photons. Les photons peuvent se trouver dans la plage de longueur d'onde des ultraviolets extrêmes ou des rayons X mous et, dans une réalisation, ils possèdent des longueurs d'onde dans la plage comprise approximativement entre 10 et 15 nanomètres.
Designated States: CN, JP, KR.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)