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1. (WO2001090434) TUNING ELECTRODES USED IN A REACTOR FOR ELECTROCHEMICALLY PROCESSING A MICROELECTRONIC WORKPIECE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/090434    International Application No.:    PCT/US2001/014509
Publication Date: 29.11.2001 International Filing Date: 04.05.2001
Chapter 2 Demand Filed:    19.12.2001    
IPC:
C23C 14/54 (2006.01), C23C 16/52 (2006.01), C25D 7/12 (2006.01), C25D 21/12 (2006.01)
Applicants: SEMITOOL, INC. [US/US]; 655 West Reserve Drive, Kalispell, MT 59901 (US) (For All Designated States Except US).
WILSON, Gregory, J. [US/US]; (US) (For US Only).
MCHUGH, Paul, R. [US/US]; (US) (For US Only).
WEAVER, Robert, A. [US/US]; (US) (For US Only).
RITZDORF, Thomas, L. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: WILSON, Gregory, J.; (US).
MCHUGH, Paul, R.; (US).
WEAVER, Robert, A.; (US).
RITZDORF, Thomas, L.; (US)
Agent: LAWRENZ, Steven, D.; Perkins Coie LLP, P.O. Box 1247, Seattle, WA 98111-1247 (US)
Priority Data:
60/206,663 24.05.2000 US
Title (EN) TUNING ELECTRODES USED IN A REACTOR FOR ELECTROCHEMICALLY PROCESSING A MICROELECTRONIC WORKPIECE
(FR) REGLAGE D'ELECTRODES UTILISEES DANS UN REACTEUR POUR LE TRAITEMENT ELECTROCHIMIQUE D'UNE PIECE MICRO-ELECTRONIQUE
Abstract: front page image
(EN)A facility for selecting and refining electrical parameters for processing a microelectronic workpiece in a processing chamber is described. The facility initially configures the electrical parameters in accordance with either a numerical of the processing chamber or experimental data derived from operating the actual processing chamber. After a workpiece is processed with the initial parameter configuration, the results are measured and a sensitivity matrix based upon the numerical model of the processing chamber is used to select new parameters that correct for any deficiencies measured in the processing of the first workpiece. These parameters are then used in processing a second workpiece, which may be similarly measured, and the results used to further refine the parameters.
(FR)Selon cette invention, un équipement permet de sélectionner et de mettre au point des paramètres électriques pour le traitement d'une pièce micro-électronique dans une chambre de traitement. Cet équipement configure d'abord les paramètres électriques conformément à des données numériques de la chambre de traitement ou à des données expérimentales dérivées du fonctionnement de ladite chambre de traitement. Après traitement de la pièce selon la configuration initiale des paramètres, le résultats sont mesurés et une matrice de sensibilité sur la base du modèle numérique de la chambre de traitement est utilisée pour sélectionner de nouveaux paramètres qui permettent de corriger toutes les déficiences mesurées au cours du traitement de la première pièce. Ces paramètres sont ensuite utilisés pour le traitement d'une seconde pièce qui peut être mesurée de façon similaire, et les résultats sont ensuite utilisés pour régler les paramètres.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)