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1. (WO2001086697) INDUCTIVE PLASMA LOOP ENHANCING MAGNETRON SPUTTERING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/086697    International Application No.:    PCT/US2001/015403
Publication Date: 15.11.2001 International Filing Date: 11.05.2001
Chapter 2 Demand Filed:    04.12.2001    
IPC:
H01J 37/32 (2006.01), H01J 37/34 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; P.O. Box 450A Santa Clara, CA 95052 (US)
Inventors: PAN, Shaoher, X.; (US).
HANAWA, Hiroji; (US).
FORSTER, John, C.; (US).
CHEN, Fusen; (US)
Agent: BERNADICOU, Michael, A.; Blakely, Sokoloff, Taylor & Zafman LLP 12400 Wilshire Boulevard 7th floor Los Angeles, CA 90025 (US)
Priority Data:
09/569,736 11.05.2000 US
Title (EN) INDUCTIVE PLASMA LOOP ENHANCING MAGNETRON SPUTTERING
(FR) BOUCLE PLASMA INDUCTIVE AMELIORANT LA PULVERISATION MAGNETRON
Abstract: front page image
(EN)A plasma reaction chamber, particularly a DC magnetron sputter reactor, in which the plasma density and the ionization fraction of the plasma is increased by a plasma inductive loop passing through the processing space. A tube has its two ends connected to the vacuum chamber on confronting sides of the processing space. An RF coil powered by an RF power supply is positioned adjacent to the tube outside of the chamber and aligned to produce an RF magnetic field around the toroidal circumference of the tube such that an electric field is induced along the tube axis. Thereby, a plasma is generated in the tube in a loop circling through the processing space.
(FR)L'invention concerne une chambre de réaction plasmatique, en particulier un réacteur de pulvérisation magnétron cc, la densité plasmatique et la fraction d'ionisation du plasma étant accrues par une boucle plasma inductive passant dans l'espace de traitement. Un tube présente deux extrémités reliées à une chambre à vide sur des côtés opposés de l'espace de traitement. Une bobine RF entraînée par une alimentation en puissance hyperfréquence est positionnée de manière à être adjacente à l'extérieur du tube de la chambre et alignée de manière à produire un champ magnétique RF autour de la circonférence toroïdale du tube de manière qu'un champ électrique soit induit le long de l'axe du tube. Un plasma est ainsi généré dans le tube dans une boucle effectuant un cercle autour de l'espace de traitement.
Designated States: JP, KR.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)