WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2001084888) CERAMIC HEATER AND METHOD OF CONTROLLING TEMPERATURE OF THE CERAMIC HEATER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/084888    International Application No.:    PCT/JP2001/003778
Publication Date: 08.11.2001 International Filing Date: 01.05.2001
IPC:
H01L 21/00 (2006.01), H05B 1/02 (2006.01), H05B 3/14 (2006.01)
Applicants: IBIDEN CO., LTD. [JP/JP]; 1, Kanda-cho 2-chome Ogaki-shi, Gifu 503-0917 (JP) (For All Designated States Except US).
OHASHI, Jun [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KOGA, Yasutaka [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: OHASHI, Jun; (JP).
KOGA, Yasutaka; (JP)
Agent: OGAWA, Junzo; Kobikikan Ginza Bldg. 8-9, Ginza 2-chome Chuo-ku, Tokyo 104-0061 (JP)
Priority Data:
2000-169735 29.04.2000 JP
Title (EN) CERAMIC HEATER AND METHOD OF CONTROLLING TEMPERATURE OF THE CERAMIC HEATER
(FR) ELEMENT CHAUFFANT EN CERAMIQUE
Abstract: front page image
(EN)A method of controlling the temperature of a ceramic heater, comprising the steps of forming a resistance heating body by dividing the circuit thereof into two or more circuits on the outer and inner peripheral part sides of a substrate and, based on the results of measurement of temperatures by a temperature measuring means, inputting different powers to the circuits for temperature control, whereby the temperature on the outer peripheral part side is increased to a temperature equal to or higher than the temperature on the inner peripheral part side so as to uniform the temperature distribution on a substrate heating surface in radial direction in order to reduce a temperature difference on the heating surface of a silicone wafer.
(FR)L'invention concerne un procédé permettant de réguler la température d'un élément chauffant en céramique, qui consiste à former un corps de chauffage à résistance par division du circuit dudit corps en au moins deux circuits situés sur les côtés des parties périphériques intérieure et extérieure d'un substrat, et à introduire, en fonction des résultats des mesures de température effectuées au moyen d'un organe de mesure, des puissances différentes dans lesdits circuits de façon à réguler la température. La température du côté périphérique extérieur atteint une température égale ou supérieure à la température du côté périphérique intérieur, ce qui permet de réguler uniformément la température sur une surface de chauffage du substrat dans un sens radial, afin de réduire la différence de température sur la surface de chauffage d'une tranche de silicium.
Designated States: JP, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)