WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2001084624) SEMICONDUCTOR LIFT PIN FOR DECHUCKING SUBSTRATES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/084624    International Application No.:    PCT/US2001/013405
Publication Date: 08.11.2001 International Filing Date: 25.04.2001
Chapter 2 Demand Filed:    26.10.2001    
IPC:
H01L 21/683 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; P.O. Box 450 A Santa Clara, CA 95052 (US)
Inventors: LOEWENHARDT, Peter, K.; (US).
HANAWA, Hiroji; (US).
GRISTI, Raymond; (US).
YIN, Gerald, Zheyao; (US).
YE, Yan; (US)
Agent: BERNADICOU, Michael, A.; Blakely, Sokoloff, Taylor & Zafman LLP 7th Floor 12400 Wilshire Boulevard Los Angeles, CA 90025 (US)
Priority Data:
09/561,585 28.04.2000 US
Title (EN) SEMICONDUCTOR LIFT PIN FOR DECHUCKING SUBSTRATES
(FR) BROCHE DE RELEVAGE DE SEMICONDUCTEUR POUR LE DESSERRAGE DES SUBSTRATS
Abstract: front page image
(EN)A lift pin (95) capable of dechucking a substrate (15) on a support (65) comprises a body including a resistor (125). In one version the resistor comprises a body (126) comprising semiconducting material. The resistor (125) reduces the voltage caused by RF current while allowing residual electrostatic charge to be removed by flowing to a current sink (105).
(FR)La présente invention concerne une broche (95) de relevage capable de desserrer un substrat (15) sur un support (65), qui comprend un corps contenant une résistance (125). Dans une version cette résistance comprend un corps (126) incluant un matériau semiconducteur. Cette résistance (125) réduit la tension causée par le courant HF tout en permettant à la charge électrostatique résiduelle d'être éliminée par un écoulement vers un écoulement de courant.
Designated States: JP.
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)