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1. (WO2001084621) ROTATION HOLDING DEVICE AND SEMICONDUCTOR SUBSTRATE PROCESSING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/084621    International Application No.:    PCT/JP2001/003626
Publication Date: 08.11.2001 International Filing Date: 26.04.2001
IPC:
H01L 21/00 (2006.01), H01L 21/687 (2006.01)
Applicants: EBARA CORPORATION [JP/JP]; 11-1, Haneda Asahi-cho Ohta-ku, Tokyo 144-8510 (JP) (For All Designated States Except US).
HONGO, Akihisa [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KATAKABE, Ichiro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MORISAWA, Shinya [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: HONGO, Akihisa; (JP).
KATAKABE, Ichiro; (JP).
MORISAWA, Shinya; (JP)
Agent: WATANABE, Isamu; GOWA Nishi-Shinjuku 4F 5-8, Nishi-Shinjuku 7-chome Shinjuku-ku, Tokyo 160-0023 (JP)
Priority Data:
2000-127365 27.04.2000 JP
Title (EN) ROTATION HOLDING DEVICE AND SEMICONDUCTOR SUBSTRATE PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE SUPPORT ET DE ROTATION ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT DE SEMI-CONDUCTEUR
Abstract: front page image
(EN)A rotation holding device for holding and rotating a disk member (rotated body) such as a semiconductor wafer, and a semiconductor substrate processing device forming a circuit wiring by filling circuit pattern grooves and/or holes formed in a semiconductor substrate with metal plating film and removing the metal plating film other than that on the filled portions; comprising a rotating member rotating about the rotating axis thereof and holding members disposed along the same circular direction about the rotating axis of the rotating member and revolving according to the rotation of the rotating members.
(FR)L'invention concerne un dispositif de support et de rotation prévu pour maintenir et faire tourner un élément sous forme de disque (corps mis en rotation), tel qu'une tranche de semi-conducteur, ainsi qu'un dispositif de traitement de substrat de semi-conducteur formant un câblage de circuit par remplissage de rainures et/ou de perforations de modèles de circuit formés dans le substrat de semi-conducteur avec le film de galvanoplastie et par enlèvement du film de galvanoplastie autre que celui situé dans les parties remplies. Le dispositif de support et de rotation comprend un élément rotatif tournant autour de son axe de rotation et des éléments supports disposés le long de la même direction circulaire, autour de l'axe de rotation de l'élément rotatif et tournant selon la rotation des éléments de rotation.
Designated States: JP, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)