WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2001081496) POLISHING COMPOUND AND METHOD FOR PREPARATION THEREOF, AND POLISHING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/081496    International Application No.:    PCT/JP2001/002364
Publication Date: 01.11.2001 International Filing Date: 23.03.2001
IPC:
B24B 57/02 (2006.01), B24B 37/00 (2012.01), B24D 3/34 (2006.01), C09K 3/14 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01)
Applicants: NIHON MICRO COATING CO., LTD. [JP/JP]; 4-1, Musashino 3-chome Akishima-City, Tokyo 196-0021 (JP) (For All Designated States Except US).
TANI, Yasuhiro [JP/JP]; (JP).
Lu, Yishen [CN/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: TANI, Yasuhiro; (JP).
Lu, Yishen; (JP)
Agent: TAKEUCHI, Sumio; Daiwa Bank Toranomon Building. 6-21, Nishishinbashi 1-Chome Minato-Ku, Tokyo 105-0003 (JP)
Priority Data:
2000-120398 21.04.2000 JP
Title (EN) POLISHING COMPOUND AND METHOD FOR PREPARATION THEREOF, AND POLISHING METHOD
(FR) COMPOSE DE POLISSAGE ET PROCEDE DE PREPARATION CORRESPONDANT, ET PROCEDE DE POLISSAGE
Abstract: front page image
(EN)A polishing agent comprising mother grains and, being held on the surface thereof, ultra fine abrasive grains; a method for preparing the polishing agent which comprises a step of adding mother grains to ultra fine abrasive grains and a step of agitating them; and a method of polishing which comprises a step of supplying a specific amount of the polishing agent onto a lap plate and a step of subjecting an article to be polished to lapping while rotating the lap plate with a given rotating rate. Most of ultra fine abrasive grains remains to be held on mother grains also during polishing. The polishing agent is characterized in that when ultra fine abrasive grains are separated from a mother grain, they are again attached to a mother grain promptly.
(FR)L'invention se rapporte à un agent de polissage comportant des grains-mère à la surface desquels sont maintenus des grains abrasifs ultra fins, et à un procédé de préparation de l'agent de polissage qui consiste à ajouter des grains-mère à des grains abrasifs ultra fins et ensuite à les mélanger. L'invention se rapporte à un procédé de polissage qui consiste à déposer une quantité spécifique de l'agent de polissage sur une plaque de rodage et à soumettre un article à polir à un rodage tout en faisant tourner la plaque de rodage à une vitesse de rotation donnée. La plupart des grains abrasifs fins reste accrochée aux grains-mère pendant le polissage. L'agent de polissage se caractérise en ce que, lorsque des grains abrasifs ultra fins sont séparés d'un grain-mère, ils sont à nouveau attachés rapidement à un grain-mère.
Designated States: CN, KR, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)