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1. (WO2001039181) METHOD OF MANUFACTURING MAGNETIC HEAD, AND MAGNETIC RECORDING AND REPRODUCING APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/039181    International Application No.:    PCT/JP2000/008225
Publication Date: 31.05.2001 International Filing Date: 22.11.2000
Chapter 2 Demand Filed:    23.03.2001    
IPC:
G11B 5/133 (2006.01), G11B 5/187 (2006.01), G11B 5/53 (2006.01)
Applicants: MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD. [JP/JP]; 1006-banchi, Oaza-Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 571-8501 (JP) (For All Designated States Except US).
OGASAWARA, Shinya [JP/JP]; (JP) (For US Only).
FUJIKI, Mitsuhisa [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YAMABAYASHI, Satoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OKANA, Tetsuya [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: OGASAWARA, Shinya; (JP).
FUJIKI, Mitsuhisa; (JP).
YAMABAYASHI, Satoshi; (JP).
OKANA, Tetsuya; (JP)
Agent: IKEUCHI, Hiroyuki; Suite 401 Umeda Plaza Building, 3-25, Nishitenma 4-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 530-0047 (JP)
Priority Data:
11/332291 24.11.1999 JP
Title (EN) METHOD OF MANUFACTURING MAGNETIC HEAD, AND MAGNETIC RECORDING AND REPRODUCING APPARATUS
(FR) PROCEDE DE FABRICATION D'UNE TETE MAGNETIQUE ET APPAREIL DE REPRODUCTION ET D'ENREGISTREMENT MAGNETIQUE
Abstract: front page image
(EN)A magnetic head is manufactured by grinding a head chip (2) with a gap depth (GD1) to remove its margin (6) until the gap depth becomes a final gap depth (GD2). The gap depth (GD1) is 25 microns or thinner. The method increases yield and productivity in manufacture of a high-performance magnetic head with a decreased gap depth (GD2), which satisfies the standards of both the gap depth (GD2) and the distance between the head gap and the outermost point of the chip front.
(FR)L'invention concerne une tête magnétique fabriquée par meulage d'une puce de tête (2) présentant une profondeur d'entrefer (GD1) de façon à en réduire la marge (6) jusqu'à ce que la profondeur d'entrefer atteigne une profondeur d'entrefer finale (GD2). La profondeur d'entrefer (GD1) est inférieure ou égale à 25 microns. Ce procédé permet d'augmenter le rendement et la productivité dans la fabrication d'une tête magnétique haute performance avec une profondeur d'entrefer réduite (GD2), ce qui satisfait aux normes de profondeur d'entrefer (GD2) et de distance entre l'entrefer et le point le plus à l'extérieur de l'avant de la puce.
Designated States: CN, JP, KR, US.
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)