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1. (WO2001037017) METHOD OF ALIGNMENT IN AN OPTOELECTRONIC ASSEMBLY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/037017    International Application No.:    PCT/GB2000/004269
Publication Date: 25.05.2001 International Filing Date: 07.11.2000
Chapter 2 Demand Filed:    15.06.2001    
IPC:
G02B 6/36 (2006.01), G02B 6/42 (2006.01)
Applicants: BOOKHAM TECHNOLOGY PLC. [GB/GB]; 90 Milton Park, Abingdon, Oxon OX14 4RY (GB)
Inventors: RANDLE, Frederick; (GB)
Agent: CLAYTON-HATHWAY, Anthony, Nicholas; Fry Heath & Spence, The Old College, 53 High Street, Horley, Surrey RH6 7BN (GB)
Priority Data:
9926927.6 16.11.1999 GB
Title (EN) METHOD OF ALIGNMENT IN AN OPTOELECTRONIC ASSEMBLY
(FR) PROCEDE D'ALIGNEMENT DANS UN ENSEMBLE OPTOELECTRONIQUE
Abstract: front page image
(EN)The invention provides a method of generating an alignment feature (200, 300) in an optoelectronic assembly (10, 700) which enables another part, for example an optical fibre (80), external to the assembly to be aligned to a device (40, 400) within the assembly (10, 700) but without needing to be attached to the device (40, 400). The method involves using the device (40, 400) to define a position for its own alignment feature to which the part can register, thereby aligning the part (80) to the device (40, 400). When the device (40) is an emissive device, radiation emitted therefrom is used to delineate a position for the alignment feature. When the device (400) is a detecting device, the feature is defined with assistance of an apparatus (500) whose beam is guided in response to output from the device (400) to delineate a position for the alignment feature. The position of the alignment feature can be first defined in a system of layers (100) responsive to radiation from the device (40) or from the apparatus (500), and then transferred from the system of layers (100) by etching processesinto a wall (70) of the assembly (10, 700) to provide a recess therein into which the part (80) can register for aligning to the device (40, 400).
(FR)L'invention concerne un procédé de génération d'une caractéristique d'alignement (200, 300) dans un ensemble optoélectronique (10, 700) qui permet à une pièce, par exemple une fibre optique (80), extérieure à l'ensemble d'être alignée à un dispositif (40, 400) à l'intérieur de l'ensemble (10, 700) sans besoin d'être fixée au dispositif (40, 400). Le procédé consiste à utiliser le dispositif (40, 400) pour définir une position pour sa propre caractéristique d'alignement à laquelle la pièce peut se caler, ce qui aligne la pièce (80) au dispositif (40, 400). Lorsque le dispositif (40) est un dispositif d'émission, les rayonnements émis de ce dernier sont utilisés pour délimiter une position pour la caractéristique d'alignement. Lorsque le dispositif (40) est un dispositif de détection, la caractéristique est définie à l'aide d'un appareil (500) dont le faisceau est guidé en fonction de la sortie du dispositif (400) afin de délimiter une position pour la caractéristique d'alignement. La position de la caractéristique d'alignement peut d'abord être définie dans un système de couches (100) répondant aux rayonnements du dispositif (40) ou à l'appareil (500), puis transférée du système de couches (40) par un processus de gravure à une paroi (70) de l'ensemble (10, 700), afin d'y creuser un embrèvement dans lequel la pièce (80) peut se caler pour s'aligner au dispositif (40, 400).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)