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1. (WO2001036370) VINYLPHENYLPROPIONIC ACID DERIVATIVES, PROCESSES FOR PRODUCTION OF THE DERIVATIVES, POLYMERS THEREOF AND RADIOSENSITIVE RESIN COMPOSITIONS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/036370    International Application No.:    PCT/JP2000/007950
Publication Date: 25.05.2001 International Filing Date: 10.11.2000
Chapter 2 Demand Filed:    14.03.2001    
IPC:
C07C 67/343 (2006.01), C07C 69/618 (2006.01), C07D 309/12 (2006.01), C08F 30/02 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
Applicants: JSR CORPORATION [JP/JP]; 11-24, Tsukiji 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 104-0045 (JP) (For All Designated States Except US).
WANG, Yong [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MUTSUGA, Yasuaki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SHIMIZU, Shigeo [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SHIMOKAWA, Tsutomu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KUMANO, Atsushi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: WANG, Yong; (JP).
MUTSUGA, Yasuaki; (JP).
SHIMIZU, Shigeo; (JP).
SHIMOKAWA, Tsutomu; (JP).
KUMANO, Atsushi; (JP)
Agent: OHSHIMA, Masataka; Ohshima Patent Office, Fukuya Building, 3, Yotsuya 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 160-0004 (JP)
Priority Data:
11/324413 15.11.1999 JP
2000-133334 02.05.2000 JP
Title (EN) VINYLPHENYLPROPIONIC ACID DERIVATIVES, PROCESSES FOR PRODUCTION OF THE DERIVATIVES, POLYMERS THEREOF AND RADIOSENSITIVE RESIN COMPOSITIONS
(FR) DERIVES D'ACIDE VINYLPHENYLPROPIONIQUE, PROCEDES DE PRODUCTION DE CES DERIVES, POLYMERES OBTENUS A PARTIR DE CES DERIVES ET COMPOSITIONS RADIOSENSIBLES A BASE DE RESINE
Abstract: front page image
(EN)Vinylphenylpropionic acid derivatives; processes for producing the derivatives; polymers of the same; and radiosensitive resin compositions containing the polymers. The above polymers exhibit low radiation absorption and are useful as the resin component of radiosensitive resin compositions particularly suitable for chemically amplified resists. For example, t-butyl 4-vinylphenylpropionate is produced by (1) reacting t-butyl bromoacetate with tri(n-butyl)phosphine to obtain a quaternary phosphonium salt, (2) reacting this salt with a base to obtain a phosphorus ylide, (3) reacting this ylide with 2,4,6-tris(3',5'-di-t-butyl-4'-hydroxybenzyl)methyl-styrene to obtain a quaternary phosphonium salt, and (4) hydrolyzing this salt.
(FR)L'invention concerne des dérivés d'acide vinylphénylpropionique, des procédés de production de ces dérivés, des polymères obtenus à partir de ces dérivés, et des compositions de résine radiosensibles contenant ces polymères. Lesdits polymères présentent une faible capacité d'absorption des rayonnements et sont utiles en tant qu'élément résine des compositions à base de résine radiosensibles particulièrement indiquées pour des matières de protection à amplification chimique. Par exemple, un 4-vinylphénylpropionate de t-butyle est obtenu 1) par réaction d'un bromoacétate de t-butyle avec un tri(n-butyl)phosphine pour obtenir un sel de phosphonium quaternaire; 2) par réaction dudit sel avec une base pour obtenir un ylure phosphoreux; 3) par réaction dudit ylure avec un 2,4,6-tris(3',5'-di-t-butyl-4'-hydroxybenzyl)méthyle-styrène pour obtenir un sel de phosphonium quaternaire; et 4) par hydrolyse dudit sel.
Designated States: IL, KR, SG, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)