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1. (WO2001035453) HEAT TREATMENT DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/035453    International Application No.:    PCT/JP2000/007886
Publication Date: 17.05.2001 International Filing Date: 09.11.2000
Chapter 2 Demand Filed:    25.04.2001    
IPC:
C23C 16/44 (2006.01), H01L 21/00 (2006.01)
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 107-8481 (JP) (For All Designated States Except US).
SAITO, Yukimasa [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SAITO, Yukimasa; (JP)
Agent: SATO, Kazuo; Kyowa Patent & Law Office, Room 323, Fuji Bldg., 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-0005 (JP)
Priority Data:
11/317929 09.11.1999 JP
2000-184309 20.06.2000 JP
Title (EN) HEAT TREATMENT DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT THERMIQUE
Abstract: front page image
(EN)A film forming device, comprising a treating furnace, gas feeding means feeding treating gas into the processing furnace, heating means heating the inside of the treating furnace to a specified treating temperature, and a normal pressure exhaust system for exhausting the gas inside the treating furnace at a specified exhaust pressure near the atmospheric pressure, the normal pressure exhaust system further comprising a flow-adjustable and pressure-adjustable valve, wherein the exhaust pressure of the normal pressure exhaust system is detected by a pressure sensor, and a control part controls the valve based on the pressure detected by the pressure sensor, whereby a stable control is allowed without requiring the introduction of the atmosphere or inert gas, and the structure of the exhaust system is simplified so as to reduce the cost of the entire device.
(FR)L'invention concerne un dispositif filmogène, comprenant un four de traitement, un moyen d'alimentation en gaz alimentant en gaz de traitement le four de traitement, un moyen de chauffage chauffant l'intérieur du four de traitement à une température de traitement spécifiée, et un système d'évacuation sous pression normale destiné à évacuer l'intérieur gazeux du four de traitement à une pression d'évacuation spécifiée proche de la pression atmosphérique, le système d'évacuation sous pression normale comprenant également une soupape réglable en écoulement et en pression, la pression d'évacuation du système d'évacuation sous pression normale étant détectée par un détecteur de pression, et une partie de commande gère la soupape sur la base de la pression détectée par le détecteur de pression, de manière qu'une commande stable est obtenue sans nécessiter l'introduction de l'atmosphère ou d'un gaz inerte, et la structure du système d'évacuation est simplifiée afin de réduire le coût du dispositif dans son intégralité.
Designated States: KR, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)