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1. (WO2001033202) ELEMENTARY ANALYSIS DEVICE BY OPTICAL EMISSION SPECTROMETRY ON PLASMA PRODUCED BY A LASER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/033202    International Application No.:    PCT/FR2000/003056
Publication Date: 10.05.2001 International Filing Date: 02.11.2000
IPC:
G01N 21/71 (2006.01)
Applicants: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE [FR/FR]; 31-33, rue de la Fédération, F-75752 Paris 15ème (FR) (For All Designated States Except US).
COMPAGNIE GENERALE DES MATIERES NUCLEAIRES [FR/FR]; 2, rue Paul Dautier, F-78140 Velizy-Villacoublay (FR) (For All Designated States Except US).
LACOUR, Jean-Luc [FR/FR]; (FR) (For US Only).
WAGNER, Jean-François [FR/FR]; (FR) (For US Only).
DETALLE, Vincent [FR/FR]; (FR) (For US Only).
MAUCHIEN, Patrick [FR/FR]; (FR) (For US Only)
Inventors: LACOUR, Jean-Luc; (FR).
WAGNER, Jean-François; (FR).
DETALLE, Vincent; (FR).
MAUCHIEN, Patrick; (FR)
Agent: LEHU, Jean; Brevatome, 3, rue du Docteur Lancereaux, F-75008 Paris (FR)
Priority Data:
99/13717 03.11.1999 FR
Title (EN) ELEMENTARY ANALYSIS DEVICE BY OPTICAL EMISSION SPECTROMETRY ON PLASMA PRODUCED BY A LASER
(FR) DISPOSITIF D'ANALYSE ELEMENTAIRE PAR SPECTROMETRIE D'EMISSSION OPTIQUE SUR PLASMA PRODUIT PAR LASER
Abstract: front page image
(EN)The invention concerns an elementary analysis device by optical emission spectrometry on plasma produced by laser, comprising a pulsed laser source (6), means (8, 10, 12) focusing the light from said source onto an object to be analysed (2), to produce plasma on the surface of the object, means (16, 18) for analysing a spectrum of the plasma radiation, means (20) for determining, from said analysis, the elementary composition of the object, and optional means (4) for moving the object. The invention is useful in particular for controlling radioactive materials.
(FR)Dispositif d'analyse élémentaire par spectrométrie d'émission optique sur plasma produit par laser. Ce dispositif comprend une source laser pulsée (6), des moyens (8, 10, 12) de focalisation de la lumière de cette source sur un objet à analyser (2), pour produire un plasma sur la surface de l'objet, des moyens (16, 18) d'analyse d'un spectre du rayonnement du plasma, des moyens (20) de détermination, à partir de cette analyse, de la composition élémentaire de l'objet, et d'éventuels moyens (4) de déplacement de l'objet. L'invention s'applique notamment au contrôle de matériaux radioactifs.
Designated States: CA, JP, RU, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)