WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2001032250) MASK
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/032250    International Application No.:    PCT/AU2000/001349
Publication Date: 10.05.2001 International Filing Date: 03.11.2000
Chapter 2 Demand Filed:    11.05.2001    
IPC:
A61M 16/06 (2006.01)
Applicants: AUSTRALIAN CENTRE FOR ADVANCED MEDICINE TECHNOLOGY LTD [AU/AU]; David Read Laboratories D06, Department of Medicine, University of Sydney, NSW 2006 (AU) (For All Designated States Except US).
SULLIVAN, Colin [AU/AU]; (AU) (For US Only).
WILKIE, Paul [AU/AU]; (AU) (For US Only)
Inventors: SULLIVAN, Colin; (AU).
WILKIE, Paul; (AU)
Agent: F B RICE & CO; 605 Darling Street, Balmain, NSW 2041 (AU)
Priority Data:
PQ 3822 03.11.1999 AU
Title (EN) MASK
(FR) MASQUE
Abstract: front page image
(EN)A mask (10) for supplying gas under pressure to the nasal airway of an infant human includes a manifold (16) for supplying air to an aperture (56) in the mask (10) and a support structure or plate (14) for supporting the manifold (16). A shaped membrane structure (12) formed from a thin walled membrane extends generally away from the support structure (14) and defines an enclosure for receiving at least the nares of an infant human nose and a generally trapezoidal aperture (56) adapted to fit around the nasal area of the infant human. Part of the membrane (12) around the aperture (56) is sufficiently flexible to mould to the shape of the infant human's nasal area or is countoured to generally match the contours around that nasal area whilst the membrane structure (12) itself has sufficient rigidity to support the weight of the backing plate (14) without collapsing. The provision of a generally trapezoidal rather than the generally triangular apertures (56) for fitting around the nares provides a substantially improved fit when the mask (10) is used with infants. The moulding or contouring of the membrane structure (12) around the aperture (56) to match the shape of the infant's facial contours around the nasal area is also important in ensuring a comfortable fit and an effective seal.
(FR)L'invention concerne un masque (10) destiné à fournir du gaz sous pression aux voies respiratoires nasales d'un enfant, comprenant un collecteur (16) destiné à fournir de l'air à une ouverture (56) située dans le masque (10) et une structure de support ou plaque (14) servant de support au collecteur (16). Une structure de membrane façonnée (12) formée à partir d'une fine membrane fermée s'étend globalement depuis la structure de support (14) et définit une enceinte destinée à recevoir au moins les narines du nez d'un enfant et une ouverture (56) globalement trapézoïdale adaptée pour être ajustée autour de la zone nasale de l'enfant. Une partie de la membrane (12) autour de l'ouverture (56) est suffisamment flexible pour prendre la forme de la zone nasale de l'enfant ou est profilée pour s'adapter globalement au contour de la zone nasale, la structure de membrane (12) étant elle-même suffisamment rigide pour supporter le poids de la plaque (14) de support sans s'affaisser. L'utilisation d'un article présentant une ouverture (56) globalement trapézoïdale plutôt qu'une ouverture (56) globalement triangulaires destinée à être ajustée autour des narines permet d'obtenir un masque (10) sensiblement amélioré qui s'ajuste beaucoup mieux à la zone nasale des enfants. Le façonnage ou le profil de la structure de membrane (12) entourant l'ouverture (56) pour correspondre à la forme des contours faciaux de la zone nasale de l'enfant est également important pour assurer un ajustage confortable et une étanchéité efficace.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)