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1. (WO2001029620) APPARATUS AND METHODS FOR DEVELOPMENT OF RESIST PATTERNS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/029620    International Application No.:    PCT/US2000/027162
Publication Date: 26.04.2001 International Filing Date: 03.10.2000
Chapter 2 Demand Filed:    18.04.2001    
IPC:
G03F 7/38 (2006.01), G03F 7/40 (2006.01)
Applicants: KODAK POLYCHROME GRAPHICS CO. LTD. [BB/US]; 401 Merritt 7, Norwalk, CT 06851 (US).
TECHNIGRAPH PRODUCTS LTD. [GB/GB]; Howlett Way, Fison Industrial Estate, Thetford, Norfolk IP24 1HZ (GB)
Inventors: HALEY, Neil, F.; (US).
DOLMAN, William, G.; (GB)
Agent: SORELL, Louis, S.; Baker Botts, LLP, 30 Rockefeller Plaza, New York, NY 10112-0228 (US)
Priority Data:
60/159,801 15.10.1999 US
09/573,126 17.05.2000 US
Title (EN) APPARATUS AND METHODS FOR DEVELOPMENT OF RESIST PATTERNS
(FR) PROCEDES ET DISPOSITIF POUR DEVELOPPER DES MODELES DE RESERVE
Abstract: front page image
(EN)An integrated apparatus for processing a resist pattern imaged on a substrate, notably a thermal lithographic printing plate, comprises a chemical development section, and a preheat oven upstream of the chemical development section. The preheat oven is controllable to provide for substantially uniform heating of the imaged lithographic plate (or other imaged resist pattern on the substrate) as the plate progresses through the apparatus. If desired a plate baking oven may be provided downstream of the chemical development section.
(FR)L'invention concerne un dispositif intégré permettant de traiter un modèle de réserve reproduit sur un substrat, notamment une plaque d'impression lithographique thermique, qui comprend une section de développement chimique, ainsi qu'une chambre de préchauffage montée en amont de la section de développement chimique. Ladite chambre de préchauffage peut être régulée pour assurer un chauffage sensiblement homogène de la plaque lithographique représentée (ou autre modèle de réserve représenté sur le substrat), à mesure que la plaque avance à travers le dispositif. Une chambre de cuisson de la plaque peut être prévue le cas échéant, en aval de la section de développement chimique.
Designated States: AU, BR, CA, IN, JP.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)