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1. (WO2001028300) MATCHING DEVICE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/028300    International Application No.:    PCT/JP2000/007083
Publication Date: 19.04.2001 International Filing Date: 12.10.2000
Chapter 2 Demand Filed:    16.03.2001    
IPC:
H01J 37/32 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01)
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 107-8481 (JP) (For All Designated States Except US).
TOKYO HY-POWER LABS., INC. [JP/JP]; 1-1, Hatanaka 3-chome, Niiza-shi, Saitama 352-0012 (JP) (For All Designated States Except US).
HIMORI, Shinji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YUASA, Mitsuhiro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
WATANABE, Kazuyoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SHIMADA, Jun'ichi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: HIMORI, Shinji; (JP).
YUASA, Mitsuhiro; (JP).
WATANABE, Kazuyoshi; (JP).
SHIMADA, Jun'ichi; (JP)
Agent: SATO, Kazuo; Kyowa Patent & Law Office, Room 323, Fuji Building, 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-0005 (JP)
Priority Data:
11/294527 15.10.1999 JP
Title (EN) MATCHING DEVICE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
(FR) DISPOSITIF D'ADAPTATION ET APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA
Abstract: front page image
(EN)A small-size matching device for supply of electric power of high frequency higher than 100 MHz by matching the impedance of a high frequency load with that of a transmission line in a short matching time, and a plasma processing apparatus comprising the same are disclosed. The matching device (41) comprises a resonance bar (61) for transferring high frequency energy from a high frequency power supply (40) to a plasma producing electrode (21), a variable capacitor (62) connected in series to the resonance bar (61) and the electrode (21) and adapted to adjust the imaginary part of the impedance complex number, a case (63) enclosing the resonance bar (61) and grounded, a link coil (64) for supplying high frequency energy to the resonance bar (61) and adjusting the real part of the impedance complex number, and a controller (69) for controlling the drive sections of the variable capacitor (62) and the link coil (64) so as to form a series resonance circuit in a matched state from the high frequency power source (40) via the plasma to the ground.
(FR)L'invention concerne un dispositif d'adaptation de petite taille pour la fourniture d'énergie électrique haute fréquence à une fréquence supérieure à 100 MHz, par adaptation entre l'impédance d'une charge haute fréquence et l'impédance d'une ligne de transmission dans un temps d'adaptation bref. L'invention concerne en outre un appareil de traitement au plasma comprenant ce dispositif. Le dispositif d'adaptation (41) comporte une barre de résonance (61) pour le transfert de l'énergie haute fréquence entre une source d'énergie haute fréquence (40) et une électrode à plasma (21), un condensateur variable (62) relié en série à la barre de résonance (61) et à l'électrode (21) permettant d'ajuster la partie fictive du nombre complexe d'impédance, une enceinte (63) entourant la barre de résonance (61) et mise à la terre, une bobine de liaison (64) fournissant l'énergie haute fréquence à la barre de résonance (61) et ajustant la partie réelle du nombre complexe d'impédance, ainsi qu'une unité de commande (69) contrôlant les partie d'attaque du condensateur variable (62) et la bobine de liaison (64) de manière à établir un circuit de résonance en série à l'état adapté entre la source d'énergie haute fréquence (40) et la terre via le plasma.
Designated States: KR, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)