WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2001026130) METHOD FOR FABRICATING AN ELECTRON-EMISSIVE FILM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/026130    International Application No.:    PCT/US2000/015253
Publication Date: 12.04.2001 International Filing Date: 02.06.2000
Chapter 2 Demand Filed:    19.03.2001    
IPC:
H01J 9/02 (2006.01)
Applicants: MOTOROLA INC. [US/US]; 1303 East Algonquin Road, Schaumburg, IL 60196 (US)
Inventors: TALIN, Albert, Alec; (US).
COLL, Bernard, F.; (US).
DEAN, Kenneth, A.; (US).
JASKIE, James, E.; (US).
HOWARD, Emmett; (US)
Agent: MEYER, Jonathan, P.; Motorola, Inc., Intellectual Property Department, 3102 North 56th Street, AZ11/56-238, Phoenix, AZ 85018 (US)
Priority Data:
09/408,699 30.09.1999 US
Title (EN) METHOD FOR FABRICATING AN ELECTRON-EMISSIVE FILM
(FR) PROCEDE DE FABRICATION D'UN FILM EMETTEUR D'ELECTRONS
Abstract: front page image
(EN)A method for fabricating an electron-emissive film (100) includes the steps of providing a powder (124), which has a plurality of carbon nanotubes (104); providing a substrate (102), a surface (103) of which defines a plurality of interstices (107); and dry spraying powder (124) onto surface (103) of substrate (102). The adjustable parameters of the dry spraying step include a separation distance of a spray nozzle (120) from surface (103), a spray angle between a spray (121) and surface (103), and a nozzle pressure at an opening (123) of spray nozzle (120). The separation distance, spray angle, and nozzle pressure are selected to achieve, for example, uniformity of electron-emissive film (100) and adhesion of carbon nanotubes (104) to substrate (102). They can also be selected to achieve a perpendicular orientation of a length-wise axis (105) of each of carbon nanotubes (104) with respect to surface (103) and to achieve the break down of aggregates of carbon nanotubes (104), so that carbon nanotubes (104) are deposited on substrate (102) substantially as individually isolated carbon nanotubes (104).
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un film émetteur d'électrons (100), qui consiste à prévoir une poudre (124) comprenant plusieurs nanotubes de carbone (104) ; à prévoir un substrat (102) dont la surface délimite plusieurs interstices (107) ; et à pulvériser à sec de la poudre (124) sur la surface (103) du substrat (102). Les paramètres ajustables de la phase de pulvérisation à sec, sont, entre autres, la distance séparant une buse de pulvérisation (120) de la surface (103), l'angle de pulvérisation entre un jet (121) et la surface (103), et la pression au niveau de l'ouverture (123) de la buse de pulvérisation (120). La distance de séparation, l'angle de pulvérisation et la pression de la buse sont sélectionnés, de sorte que, par exemple, un film émetteur d'électrons (100) homogène soit produit et que les nanotubes de carbone (104) adhèrent au substrat (102). Ils peuvent également être sélectionnés, de sorte que l'axe longitudinal (105) de chaque nanotube de carbone (104) soit perpendiculaire à la surface (103) et que les agrégats de nanotubes de carbone (104) soient fractionnés et que ces derniers (104) soient déposés sur le substrat (102) sensiblement sous forme de nanotubes de carbone (104) individuels.
Designated States: AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)