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1. (WO2001025835) LASER RADIATION SOURCE AND A METHOD FOR PRODUCING A COHERENT AND ENTIRE LASER RADIATION FIELD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/025835    International Application No.:    PCT/EP2000/009820
Publication Date: 12.04.2001 International Filing Date: 06.10.2000
IPC:
G02B 27/09 (2006.01), H01S 3/00 (2006.01), H01S 5/00 (2006.01), H01S 5/042 (2006.01), H01S 5/40 (2006.01), H01S 5/42 (2006.01)
Applicants: DEUTSCHES ZENTRUM FÜR LUFT- UND RAUMFAHRT E.V. [DE/DE]; 53175 Bonn (DE) (For All Designated States Except US).
OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH & CO. OHG [DE/DE]; Wernerwerkstrasse 2, 93049 Regensburg (DE) (For All Designated States Except US).
UNIVERSITÄT STUTTGAT INSTITUT FÜR STRAHLWERKZEUGE [DE/DE]; Pfaffenwaldring 43, 70569 Stuttgart (DE) (For All Designated States Except US).
BISSINGER, Norbert [DE/DE]; (DE) (For US Only).
BRAUCH, Uwe [DE/DE]; (DE) (For US Only).
HERGENHAN, Guido [DE/DE]; (DE) (For US Only).
OPOWER, Hans [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SCHOLL, Marcus [DE/DE]; (DE) (For US Only).
LÜCKE, Bernd [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SPÄTH, Werner [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: BISSINGER, Norbert; (DE).
BRAUCH, Uwe; (DE).
HERGENHAN, Guido; (DE).
OPOWER, Hans; (DE).
SCHOLL, Marcus; (DE).
LÜCKE, Bernd; (DE).
SPÄTH, Werner; (DE)
Agent: BECK, Jürgen; Hoeger, Stellrecht & Partner, Uhlandstrasse 14 c (Nr. 38), 70182 Stuttgart (DE)
Priority Data:
199 48 353.1 07.10.1999 DE
Title (DE) LASERSTRAHLUNGSQUELLE UND VERFAHREN ZUM ERZEUGEN EINES KOHÄRENTEN GESAMTLASERSTRAHLUNGSFELDES
(EN) LASER RADIATION SOURCE AND A METHOD FOR PRODUCING A COHERENT AND ENTIRE LASER RADIATION FIELD
(FR) SOURCE DE RAYONNEMENT LASER ET PROCEDE POUR PRODUIRE UN CHAMP DE RAYONNEMENT LASER GLOBAL COHERENT
Abstract: front page image
(DE)Um eine Laserstrahlungsquelle umfassend eine Anordnung von N einzelnen Slave-Laserdioden in einer vorgegebenen Fläche, eine Slave-Stromversorgung für die Slave-Laserdioden, eine Master-Laserdiode zur Erzeugung einer Master-Laserstrahlung, eine Master-Stromversorgung für die Master-Laserdiode, eine Kopplungsoptik, mit welcher die Master-Laserstrahlung in die einzelnen Slave-Laserdioden einkoppelbar ist, um diese bei der Frequenz der Master-Laserdiode phasenstarr zu betreiben, und eine Transformationsoptik, welche die Slave-Laserstrahlung der einzelnen Slave-Laserdioden zu einem kohärenten Gesamtlaserstrahlungsfeld mit im wesentlichen ebenen Wellenfronten vereinigt, derart zu verbessern, dass durch die Abgleichbarkeit der Stromversorgungsnetzwerke die Möglichkeit besteht, die Slave-Laserdioden relativ zueinander abzustimmen und somit in Relation zueinander stabil zu betreiben, wird vorgeschlagen, dass die Slave-Stromversorgung für jede Slave-Laserdiode ein eigenes Stromversorgungsnetzwerk aufweist, dass jedes der Stromversorgungsnetzwerke hinsichtlich des der jeweiligen Slave-Laserdiode während einer bestimmten Betriebsdauer zugeführten Stroms zur Abstimmung der Slave-Laserdioden relativ zueinander abgleichbar ist und dass die Stromversorgungsnetzwerke parallelgeschaltet und durch eine gemeinsame Quelle gespeist sind.
(EN)The invention relates to a laser radiation source comprising an arrangement of N individual slave laser diodes in a predetermined surface, a slave current supply for the slave laser diodes, a master laser diode for generating a master laser radiation, a master current supply for the master laser diode and coupling optics by means of which the master laser radiation can be coupled to the individual slave laser diodes. The aim of the invention is to operate said laser radiation source in a phase-locked manner at the frequency of the master laser diode and to improve transformation optics which combine the slave laser radiation of the individual slave laser diodes to form a coherent and entire laser radiation field with essentially flat wave fronts, in such a way that the slave laser diodes can be adjusted in relation to one another by means of the alignability of the current supply networks and can thus be operated in a stable manner in relation to one another. To this end, the slave current supply for each slave laser diode is provided with an own current supply network. Each current supply network can be aligned in relation to each other and with regard to the current that is supplied to the respective slave laser diode during a certain operating period for adjusting the slave laser diodes. The current supply networks are switched in parallel and are fed by a shared source.
(FR)L'invention concerne une source de rayonnement laser qui comprend un agencement de N diodes laser esclaves individuelles dans une surface prédéterminée, une alimentation en courant esclave pour les diodes laser esclaves, une diode laser maîtresse servant à produire un rayonnement laser maître, une alimentation en courant maîtresse pour la diode laser maîtresse, une optique de couplage, avec laquelle le rayonnement laser maître peut être injecté dans les diodes laser esclaves individuelles pour les faire fonctionner avec une phase stable à la fréquence de la diode laser maîtresse, et une optique de transformation qui réunit les rayonnements laser des diverses diodes laser esclaves pour former un champ de rayonnement laser global cohérent présentant un front d'onde sensiblement plan. L'objectif de l'invention est d'améliorer une telle source de rayonnement laser de telle sorte que, grâce à l'aptitude à l'égalisation des réseaux d'alimentation en courant, il soit possible d'accorder les diodes laser esclaves l'une par rapport à l'autre et donc de les faire fonctionner de façon stable l'une par rapport à l'autre. A cet effet, il est proposé que l'alimentation en courant esclave présente, pour chaque diode laser esclave, son propre réseau d'alimentation en courant, que chacun des réseaux d'alimentation en courant puisse être égalisé en ce qui concerne le courant conduit à chacune des diodes laser esclaves pendant une durée de fonctionnement déterminée, pour l'accord des diodes laser esclaves l'une par rapport à l'autre, et que les réseaux d'alimentation en courant soient montés en parallèle et alimentés par une source commune.
Designated States: JP, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)