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1. (WO2001025718) SYSTEM AND METHOD FOR SIMULTANEOUSLY MEASURING THIN FILM LAYER THICKNESS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/025718    International Application No.:    PCT/US2000/027614
Publication Date: 12.04.2001 International Filing Date: 06.10.2000
Chapter 2 Demand Filed:    23.03.2001    
IPC:
G01B 21/00 (2006.01)
Applicants: CANDELA INSTRUMENTS [US/US]; Suite 104D, 48890 Milmont Drive, Fremont, CA 94538 (US)
Inventors: MEEKS, Steven, W.; (US).
KUDINAR, Rusmin; (US)
Agent: MCNELIS, John, T.; Fenwick & West LLP, Two Palo Alto Square, Palo Alto, CA 94306 (US)
Priority Data:
09/414,388 07.10.1999 US
Title (EN) SYSTEM AND METHOD FOR SIMULTANEOUSLY MEASURING THIN FILM LAYER THICKNESS
(FR) SYTEME ET PROCEDE DESTINES A MESURER SIMULTANEMENT LA LARGEUR, LA REFLECTIVITE, LA RUGOSITE, LE PROFIL SURFACIQUE ET LE MOTIF MAGNETIQUE DE COUCHES MINCES DE DISQUES MAGNETIQUES ET DE PLAQUETTES AU SILICUIUM EN COUCHE MINCE
Abstract: front page image
(EN)A system and method for performing a magnetic imaging, optical profiling, and measuring lubricant thickness and degradation, carbon wear, carbon thickness, and surface roughness of thin film magnetic disks (100) at angles that are not substantially Brewster's angle of the thin film (100) protective overcoat. A focused optical light (216) whose polarization can be switched between P or S polarization (204) is incident at an angle to the surface of the thin film magnetic disk (100). This present invention allows the easy measurement of the change in lubricant thickness due to the interaction of the thin film head, the absolute lubricant thickness and degradation of the lubricant. It also allows the measurement of changes in carbon thickness and the absolute carbon thickness. The surface roughness can also be neasured at any of the angles specified above. The rotation of the reflected polarized light can be measured to identify the Kerr-effect, and accordingly, the magnetic property of the point at which the light reflects from the disk. In addition, the present invention can mark the position of an identified defect by automatically positioning a scribe in close proximity to the target position, e.g., the position of the defect, and marking the disk with the scribe.
(FR)L'invention concerne un système et un procédé destinés à effectuer une imagerie magnétique et un profilage optique, et à mesurer la largeur et la dégradation du lubrifiant, l'usure du carbone, la largeur du carbone, et la rugosité surfacique de disques magnétiques et de plaquettes au silicium en couche mince, à des angles différents des angles de Brewster du revêtement protecteur en couche mince (carbone). Une lumière optique focalisée dont la polarisation peut être commutée entre une polarisation S et P est incidente à un angle par rapport à la surface du disque magnétique en couche mince. La présente invention permet de mesurer aisément des changements de largeur du lubrifiant dus à l'interaction de la tête en couche mince, la largeur absolue du lubrifiant, la dégradation du lubrifiant, des changements de la largeur du carbone, la largeur absolue du carbone, et l'érosion et le bombage de plaquettes au silicium polies par CMP. La rugosité surfacique peut également être mesurée aux angles spécifiés plus haut. La rotation de la lumière polarisée réfléchie peut être mesurée afin d'identifier l'effet de Kerr, ainsi que les propriétés magnétiques du point de réflexion de la lumière sur le disque qui en découlent. Par ailleurs, la présente invention permet de marquer la position d'un défaut identifié par ex. par positionnement automatique d'une rainure à proximité de la position cible, par exemple la position du défaut, et marquage du disque avec une rainure.
Designated States: AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)