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1. (WO2001023950) METHOD FOR PRODUCING ULTRAHIGH RESOLUTION OPTICAL DEVICE PANEL
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/023950    International Application No.:    PCT/JP2000/006674
Publication Date: 05.04.2001 International Filing Date: 27.09.2000
IPC:
G02F 1/1337 (2006.01), G02F 1/1343 (2006.01)
Applicants: CITIZEN WATCH CO., LTD. [JP/JP]; 1-12, Tanashicho 6-chome, Nishitokyo-shi, Tokyo 188-8511 (JP) (For All Designated States Except US).
TAJIMA, Eiichi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: TAJIMA, Eiichi; (JP)
Agent: OSAWA, Takashi; Room 818, Ikebukuro White House Bldg., 20-2, Higashi Ikebukuro 1-chome, Toshima-ku, Tokyo 170-0013 (JP)
Priority Data:
11/272612 27.09.1999 JP
Title (EN) METHOD FOR PRODUCING ULTRAHIGH RESOLUTION OPTICAL DEVICE PANEL
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION D'UNE PLAQUE D'UN DISPOSITIF OPTIQUE A TRES HAUTE RESOLUTION
Abstract: front page image
(EN)A first circular transparent electrode (13) is provided at the center of a first substrate (11). An alignment film (16) is formed thereon and aligned in the direction indicated by arrow A. A second circular transparent electrode (12) is provided on a second substrate (12). An alignment film is formed thereon and aligned in the direction indicated by arrow B parallel and opposite to the direction indicated by arrow A. The alignment film excepting its central circular area is covered with resist. The central circular area alone is aligned in the direction indicated by arrow C and perpendicular to the direction indicated by arrow B. The resist is removed and twisted nematic liquid crystal is sealed in the space between the first and second substrates, thereby forming a twisted alignment region (21) and a parallel alignment region (22).
(FR)Selon l'invention, une première électrode transparente circulaire (13) est placée au centre d'un premier substrat (11). Un film d'alignement (16) y est formé et aligné dans le sens indiqué par une flèche A. Une seconde électrode transparente circulaire (12) est placée sur un second substrat (12). Un film d'alignement y est formé et aligné dans le sens indiqué par la flèche B, ce sens étant parallèle et opposé au sens indiqué par la flèche A. Le film d'alignement est entièrement couvert de résist, à l'exception de sa zone centrale circulaire. Seule cette zone centrale circulaire est alignée dans le sens indiqué par la flèche C, perpendiculairement au sens indiqué par la flèche B. On enlève le résist, puis on enferme hermétiquement un cristal liquide nématique en hélice dans l'espace situé entre le premier et le second substrat, d'où la formation d'une zone d'alignement torsadée (21) et d'une zone d'alignement parallèle (22).
Designated States: CN, JP, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)