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1. (WO2001023934) PROJECTION EXPOSURE METHOD AND APPARATUS AND PROJECTION OPTICAL SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/023934    International Application No.:    PCT/JP1999/006387
Publication Date: 05.04.2001 International Filing Date: 16.11.1999
IPC:
G02B 13/14 (2006.01), G02B 13/18 (2006.01), G02B 13/22 (2006.01), G02B 13/24 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION [JP/JP]; Fuji Building 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku Tokyo 100-8331 (JP) (For All Designated States Except US).
OMURA, Yasuhiro [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: OMURA, Yasuhiro; (JP)
Agent: OMORI, Satoshi; Omori Patent Office 2075-2-501, Noborito Tama-ku Kawasaki-shi Kanagawa 214-0014 (JP)
Priority Data:
PCT/JP99/05329 29.09.1999 JP
Title (EN) PROJECTION EXPOSURE METHOD AND APPARATUS AND PROJECTION OPTICAL SYSTEM
(FR) PROCEDE ET APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION ET SYSTEME OPTIQUE DE PROJECTION
Abstract: front page image
(EN)A refraction projection optical system preferable to a projection exposure apparatus used for lithography process in manufacturing a microdevice such as a semiconductor device. The projection optical system includes a positive front lens group (GF), an aperture stop (AS), and a positive rear lens group (GR), is a both side telecentric optical system, and satisfies the inequalities 0.065<f2/L<0.125 where f2 is the focal length of the rear lens group (GR) and L is the conjugate distance. The projection optical system includes one or more aspherical surfaces (ASP1 to ASP6).
(FR)L'invention se rapporte à un système optique de projection par réfraction qui est préférable à un appareil d'exposition par projection utilisé dans des processus lithographiques lors de la fabrication d'un microdispositif tel qu'un dispositif semi-conducteur. Le système optique de projection comporte un groupe de lentilles convergentes avant (GF), une ouverture relative (AS) et un groupe de lentilles convergentes arrière (GR); il est un système optique télécentrique sur ses deux côtés et il satisfait les inégalités 0,065<f2/L<0,125, où f2 est la distance focale du groupe de lentilles arrière (GR) et L est la distance conjuguée. Ce système optique de projection comprend une ou plusieurs surfaces asphériques (ASP1 à ASP6).
Designated States: JP, KR, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)