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1. (WO2001023916) METHOD FOR PRODUCING SELF-ORGANIZED STRUCTURES ON A SUBSTRATE SURFACE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/023916    International Application No.:    PCT/EP2000/009380
Publication Date: 05.04.2001 International Filing Date: 26.09.2000
Chapter 2 Demand Filed:    31.01.2001    
IPC:
B29C 59/14 (2006.01), B29C 59/16 (2006.01), B29C 59/18 (2006.01), G02B 5/18 (2006.01)
Applicants: FRAUNHOFER GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. [DE/DE]; Leonrodstrasse 54, 80636 München (DE) (For All Designated States Except US).
KATZENBERG, Frank [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: KATZENBERG, Frank; (DE)
Agent: RÖSLER, Uwe; Landsberger Strasse 480a, 81241 München (DE)
Priority Data:
199 46 252.6 27.09.1999 DE
Title (DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG SELBSTORGANISIERTER STRUKTUREN AUF EINER SUBSTRATOBERFLÄCHE
(EN) METHOD FOR PRODUCING SELF-ORGANIZED STRUCTURES ON A SUBSTRATE SURFACE
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION DE STRUCTURES AUTO-ORGANISEES SUR UNE SURFACE DE SUBSTRAT
Abstract: front page image
(DE)Beschrieben wird ein Verfahren zur Herstellung von Oberflächenstrukturen auf einer Substratoberfläche eines, aus einem elastischen Werkstoff bestehenden Substrates. Die Erfindung zeichnet sich dadurch aus, daß die Substratoberfläche einer, die innere Struktur des Substrates in einer oberflächennahen Schicht verändernden physikalischen und/oder chemischen Oberflächenbehandlung derart unterzogen wird, daß sich das Elastizitätverhalten und/oder der Spannungszustand innerhalb der oberflächennahen Schicht des Substrates von der Elastizität bzw. des Spannungszustandes des übrigen Substrates unterscheidet, und daß die Behandlung entweder in einem gedehnten Zustand des Substrates durchgeführt wird, wobei sich die Oberflächenstrukturen durch Entspannen des Substrates bilden, oder in einem entspannten Zustand des Substrates durchgeführt wird, wobei sich die Oberflächenstrukturen durch Dehnen des Substrates bilden.
(EN)The invention relates to a method for producing surface structures on a substrate surface of a substrate consisting of an elastic material. The invention is characterized in that the substrate surface is subjected to a physical and/or chemical surface treatment which modifies the inner structure of the substrate in a layer close to the surface. Said surface treatment is carried out in such a way that the elasticity behavior and/or the state of stress inside the layer of the substrate that is close to the surface differentiates from the elasticity or the state of stress of the rest of the substrate. The invention is also characterized in that the treatment is either carried out on the substrate in a stretched state, in which case the surface structures are formed by relaxing the substrate, or in a relaxed state, in which case the surface structures are formed when the substrate is stretched.
(FR)L'invention concerne un procédé de production de structures superficielles sur la surface d'un substrat en matière élastique. L'invention est caractérisée en ce que la surface du substrat est soumise à un traitement de surface physique et/ou chimique modifiant la structure interne du substrat dans une couche proche de la surface, de telle façon que le comportement d'élasticité et/ou l'état de contrainte de la couche proche de la surface du substrat se distingue de l'élasticité ou de l'état de contrainte du reste du substrat. Le traitement est effectué lorsque le substrat est à l'état dilaté, les structures superficielles se formant par détente du substrat, ou lorsque le substrat est à l'état détendu, les structures superficielles se formant par dilatation du substrat.
Designated States: JP, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)