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1. (WO2001023634) ROTATING MAGNET ARRAY AND SPUTTER SOURCE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/023634    International Application No.:    PCT/US2000/026503
Publication Date: 05.04.2001 International Filing Date: 27.09.2000
Chapter 2 Demand Filed:    30.04.2001    
IPC:
C23C 14/35 (2006.01), H01J 37/34 (2006.01)
Applicants: UNAXIS USA INC. [US/US]; 10050 16th Street North, St. Petersburg, FL 33716 (US) (For All Designated States Except US).
RICHARDS, Edmond, A. [US/US]; (US) (For US Only).
FOURNIER, Paul, R. [US/US]; (US) (For US Only).
JOHNSON, David [GB/US]; (US) (For US Only).
LATEEF, Abdul [US/US]; (US) (For US Only).
LISHAN, David, G. [US/US]; (US) (For US Only).
ONISHI, Shinzo [JP/US]; (US) (For US Only).
KENNEY, Mark, D. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: RICHARDS, Edmond, A.; (US).
FOURNIER, Paul, R.; (US).
JOHNSON, David; (US).
LATEEF, Abdul; (US).
LISHAN, David, G.; (US).
ONISHI, Shinzo; (US).
KENNEY, Mark, D.; (US)
Agent: ISACSON, John, P.; Foley & Lardner, 3000 K Street, N.W., Washington, DC 20007-5109 (US).
KAMINSKI, Michael, D.; Foley & Lardner, 3000 K. Street, NW, Suite 500, Washington, DC 20007-5109 (US)
Priority Data:
09/406,853 29.09.1999 US
Title (EN) ROTATING MAGNET ARRAY AND SPUTTER SOURCE
(FR) RESEAU D'AIMANTS ET SOURCE DE PULVERISATION CATHODIQUE TOURNANTS
Abstract: front page image
(EN)A sputtering system and magnet array for depositing metal and metal-reactive gas coatings onto a substrate is designed for use in a rotating magnetron. The magnet array (100) includes a plurality of magnets disposed on a plate. The plurality of magnets is arranged such that a closed-loop magnetic path (112) is formed. The shape of the magnetic path is a double-lobe structure that includes first and second lobes that are symmetric to one another about an axis in the plane of the plate that intersects the center of rotation of the plate. The magnets are arranged in several rows. A first row of magnets has a double-lobe structure that corresponds to the first and second lobes (106, 107) of the magnetic path. Second and third rows (108, 110) of magnets are arranged in the shape of rings inside the first and second lobes (106, 107) of the magnetic path. The lobe structure of the magnetic path can be circular or elliptical in shape.
(FR)La présente invention concerne un système de pulvérisation cathodique et un réseau d'aimants destinés à déposer des revêtements métalliques et des revêtements gazeux réagissant aux métaux sur un substrat, qui sont conçus pour être utilisés dans un magnétron rotatif. Le réseau d'aimants (100) comprend une pluralité d'aimants disposés sur une plaque. Les aimants de la pluralité d'aimants sont agencés pour former des lignes de force en boucle fermée (112). Les lignes de force magnétique possèdent une structure bilobée comprenant un premier et un second lobe symétriques l'un par rapport à l'autre, autour d'un axe dans le plan de la plaque qui croise le centre de rotation de ladite plaque. Les aimants sont disposés en plusieurs rangées. Une première rangée d'aimants possède une structure bilobée qui correspond au premier et au second lobe (106,107) des lignes de force magnétique. Une deuxième et une troisième rangée (108,110) d'aimants sont agencées sous forme d'anneaux à l'intérieur des premier et second lobes (106,107) des lignes de force magnétique. La structure de lobe des lignes de force magnétique peut présenter une forme circulaire ou elliptique.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)