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1. (WO2001023487) POLISH COMPOSITION AND METHOD OF USE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/023487    International Application No.:    PCT/US2000/001089
Publication Date: 05.04.2001 International Filing Date: 18.01.2000
Chapter 2 Demand Filed:    29.09.2000    
IPC:
C09G 1/10 (2006.01), C09G 1/16 (2006.01)
Applicants: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY [US/US]; 3M Center, P.O. Box 33427, Saint Paul, MN 55133-3427 (US)
Inventors: VANDER LOUW, Steven, J.; (US).
JARIWALA, Chetan, P.; (US)
Agent: KOKKO, Kent, S.; Office Of Intellectual Property Counsel, P.O. Box 33427, Saint Paul, MN 55133-3427 (US).
VOSSIUS & PARTNER; P.O. Box 86 07 67, 81634 Munchen (DE)
Priority Data:
09/405,636 24.09.1999 US
Title (EN) POLISH COMPOSITION AND METHOD OF USE
(FR) COMPOSITION DE POLISSAGE ET SON PROCEDE D'UTILISATION
Abstract: front page image
(EN)A polish composition comprising a base component and an alkylated fluorochemical oligomer. The oligomer comprises a fluorochemical oligomeric portion, an aliphatic moiety, and a linking group which links the two. The base component of the polish composition may be a wax, a silicone oil, or a mixture of the two.
(FR)L'invention concerne une composition de polissage et son procédé d'utilisation renfermant un composant de base et un oligomère fluoré alkylé. L'oligomère comprend une partie oligomère fluorée, une fraction aliphatique et un groupe de liaison qui lie les deux. Le composant de base de la composition de polissage peut être une cire, une huile de silicone ou un mélange des deux.
Designated States: CA, JP.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)