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1. (WO2001006549) EXPOSURE METHOD AND DEVICE THEREFOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2001/006549 International Application No.: PCT/JP2000/004707
Publication Date: 25.01.2001 International Filing Date: 13.07.2000
Chapter 2 Demand Filed: 15.02.2001
IPC:
H01J 37/317 (2006.01)
Applicants: MAGOME, Nobutaka[JP/JP]; JP (UsOnly)
IMAI, Motokatsu[JP/JP]; JP (UsOnly)
KAKIZAKI, Yukio[JP/JP]; JP (UsOnly)
NIKON CORPORATION[JP/JP]; Fuji Building 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku Tokyo 100-8331, JP (AllExceptUS)
Inventors: MAGOME, Nobutaka; JP
IMAI, Motokatsu; JP
KAKIZAKI, Yukio; JP
Agent: OMORI, Satoshi; Omori Patent Office 2075-2-501, Noborito Tama-ku Kawasaki-shi Kanagawa 214-0014, JP
Priority Data:
11/20419519.07.1999JP
Title (EN) EXPOSURE METHOD AND DEVICE THEREFOR
(FR) PROCEDE D'EXPOSITION ET DISPOSITIF ASSOCIE
Abstract: front page image
(EN) An exposure method and device therefor, which can enhance a throughput at exposing by enabling patterns to be transferred onto a wide area on an object to be exposed without substantially upsizing a projection system. Electron beams (EB) shot from an electron gun (1) are shone on transfer-receiving character patterns on a mask (M) via a field-of-vision-selecting deflector (7), the electron beams passed through the character patterns are deflected back by a deflector (25) and then applied onto a wafer (W) via a projection system (PL). The projection system (PL) is supported so as to be displaceable by a drive system (34) in a direction perpendicular to an optical axis, and the projection system (PL) is mechanically displaced or vibrated when the reduced images of character patterns respectively corresponding to a plurality of positions on the wafer (W) are to be transferred.
(FR) On décrit un procédé et un dispositif d'exposition qui permettent d'augmenter le rendement au moment de l'exposition du fait qu'ils permettent à des motifs devant être transférés sur une surface étendue d'un objet d'être exposés sans augmenter sensiblement la taille d'un système de projection. Des faisceaux d'électrons (FE) envoyés par un canon électronique (1) sont réfléchis sur des motifs de caractère recevant le transfert situés sur un masque (M) via un déflecteur (7) sélectionnant le champ de vision, les faisceaux d'électrons ayant traversé les motifs de caractère étant défléchis et renvoyés par un déflecteur (25) puis appliqués sur une tranche (T) via un système de projection (PL). Ce système de projection (PL) est supporté de manière à pouvoir être déplacé par un système d'entraînement (34) dans un sens perpendiculaire à un axe optique et ledit système de projection (PL) est mécaniquement déplacé ou soumis à des vibrations lorsque les images réduites des motifs de caractère correspondant à une pluralité de positions sur la tanche (T) sont sur le point d'être transférées.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)