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1. (WO2001006318) PHASE SHIFTER FILM AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/006318    International Application No.:    PCT/JP2000/004709
Publication Date: 25.01.2001 International Filing Date: 13.07.2000
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), C23C 14/06 (2006.01), C23C 14/08 (2006.01), C23C 14/34 (2006.01), C23C 14/35 (2006.01), G03F 1/32 (2012.01), G03F 1/40 (2012.01), G03F 1/68 (2012.01), H01L 21/306 (2006.01)
Applicants: ULVAC COATING CORPORATION [JP/JP]; 2804, Oaza Terao, Chichibu-shi, Saitama 368-0056 (JP) (For All Designated States Except US).
MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8310 (JP) (For All Designated States Except US).
KAWADA, Susumu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ISAO, Akihiko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YOSHIOKA, Nobuyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MAETOKO, Kazuyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KAWADA, Susumu; (JP).
ISAO, Akihiko; (JP).
YOSHIOKA, Nobuyuki; (JP).
MAETOKO, Kazuyuki; (JP)
Agent: FUKAMI, Hisao; Sumitomo Bank Minamimori-machi Bldg., 1-29, Minamimori-machi 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 530-0054 (JP)
Priority Data:
11/199941 14.07.1999 JP
Title (EN) PHASE SHIFTER FILM AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) FILM DEPHASEUR ET PROCEDE DE PRODUCTION CORRESPONDANT
Abstract: front page image
(EN)A formation of a half-tone type phase shift mask, wherein a reaction gas inlet (14a) and an inert gas inlet (14b) are provided to introduce respective gases separately, and a reactive long throw sputtering method is used to form a molybdenum silicide phase shifter film, whereby providing a half-tone type phase shift mask compatible with an ArF laser or KrF laser by using a molybdenum silicide material.
(FR)Cette invention se rapporte à la formation d'un masque de déphasage du type demi-ton, dans lequel une entrée de gaz de réaction (14a) et une entrée de gaz inerte (14b) sont prévues pour introduire des gaz respectifs séparément, et un procédé de pulvérisation longue portée réactive est utilisé pour former un film déphaseur à base de siliciure de molybdène, afin de constituer un masque de déphasage du type demi-ton compatible avec un laser ArF ou un laser KrF, grâce à l'utilisation d'un matériau à base de siliciure de molybdène.
Designated States: DE, KR, US.
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)