WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2001006304) PERIODIC OPTICAL POLING OF WAVEGUIDES FOR QUASI PHASE MATCHING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/006304    International Application No.:    PCT/GB2000/002839
Publication Date: 25.01.2001 International Filing Date: 21.07.2000
Chapter 2 Demand Filed:    19.02.2001    
IPC:
G02F 1/35 (2006.01), G02F 1/355 (2006.01), G02F 1/365 (2006.01), G02F 1/377 (2006.01), G02F 1/383 (2006.01), G02F 1/39 (2006.01)
Applicants: UNIVERSITY OF SOUTHAMPTON [GB/GB]; Highfield, Southampton, Hampshire SO17 1BJ (GB) (For All Designated States Except US).
BONFRATE, Gabriele [IT/GB]; (GB) (For US Only).
KAZANSKY, Petr, Georgevich [RU/GB]; (GB) (For US Only).
PRUNERI, Valerio [IT/GB]; (GB) (For US Only)
Inventors: BONFRATE, Gabriele; (GB).
KAZANSKY, Petr, Georgevich; (GB).
PRUNERI, Valerio; (GB)
Agent: HAINES, Miles, John; D. Young & Co., 21 New Fetter Lane, London EC4A 1DA (GB)
Priority Data:
9917138.1 21.07.1999 GB
Title (EN) PERIODIC OPTICAL POLING OF WAVEGUIDES FOR QUASI PHASE MATCHING
(FR) POLARISATION OPTIQUE PERIODIQUE DE GUIDES D'ONDES POUR QUASI-APPARIEMENT DE PHASES
Abstract: front page image
(EN)A method of and apparatus for creating a second order non-linearity profile along a waveguide. The method comprises: thermally poling a waveguide structure to generate a second order non-linearity; placing a mask adjacent to the waveguide structure; and exposing the waveguide structure with UV light through the mask to selectively erase the second order non-linearity along the waveguide structure. The mask may be an amplitude mask or phase mask. In a preferred embodiment an amplitude mask is used in combination with an incoherent UV light source to produce selective erasure of a thermally poled second order non-linearity. Apparatus for carrying out this method and devices based on waveguide structures fabricated using the method are also described.
(FR)Procédé et dispositif servant à créer un profil de non linéarité de deuxième ordre le long d'un guide d'ondes. Ce procédé consiste à: effectuer la polarisation thermique d'une structure de guide d'ondes afin de générer une non linéarité de deuxième ordre; placer un masque en position contiguë à la structure du guide d'ondes: exposer la structure du guide d'ondes à de la lumière ultraviolette à travers le masque afin de supprimer sélectivement la non linéarité de deuxième ordre le long de ladite structure. Ce masque peut être un masque d'amplitude ou un masque de phase. Dans un mode de réalisation préféré, on utilise un masque d'amplitude combiné à une source de lumière ultraviolette incohérente afin de produire un effacement sélectif d'une non linéarité de deuxième ordre à polarisation thermique. L'invention concerne également un dispositif permettant de mettre ce procédé en application et des appareils basés sur des structures de guides d'ondes fabriquées au moyen de ce procédé.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)