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1. (WO2001006024) HYDROGEN-OCCLUDING MATERIAL AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/006024    International Application No.:    PCT/JP2000/003710
Publication Date: 25.01.2001 International Filing Date: 07.06.2000
IPC:
B01J 20/02 (2006.01), C01B 3/00 (2006.01), H01M 4/38 (2006.01), H01M 8/06 (2006.01)
Applicants: SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 5-33, Kitahama 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 541-0041 (JP) (For All Designated States Except US).
KAWABE, Nozomu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SOGABE, Kouichi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YAMANAKA, Shousaku [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TAKEDA, Yoshinobu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
UEMURA, Takashi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KAWABE, Nozomu; (JP).
SOGABE, Kouichi; (JP).
YAMANAKA, Shousaku; (JP).
TAKEDA, Yoshinobu; (JP).
UEMURA, Takashi; (JP)
Agent: FUKAMI, Hisao; Sumitomo Bank Minamimori-machi Bldg., 1-29, Minamimori-machi 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 530-0054 (JP)
Priority Data:
11/203360 16.07.1999 JP
Title (EN) HYDROGEN-OCCLUDING MATERIAL AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
(FR) MATERIAU D'OCCLUSION D'HYDROGENE ET PROCEDE DE PRODUCTION ASSOCIE
Abstract: front page image
(EN)A hydrogen-occluding material (1) which has the excellent ability to occlude hydrogen, has a hydrogen release temperature which is so low as not to constitute a serious obstacle to the use thereof, and can be mass-produced. The material (1) has a structure capable of lamellar deformation accompanied by plastic deformation. In the structure capable of lamellar deformation, one layer (2) comprises a Group 2A, 3A, or 4A element or an alloy or compound containing at least one of Groups 2A, 3A, and 4A elements, and the layers (3) in contact with the layer (2) comprise a Group 6A, 7A, or 8A element or an alloy or compound containing at least one of Groups 6A, 7A, and 8A elements.
(FR)Ce matériau d'occlusion d'hydrogène (1) possède un excellent pouvoir d'occlusion de l'hydrogène, ainsi qu'une température de libération de ce gaz suffisamment basse pour ne pas constituer un obstacle sérieux à son utilisation; en outre, il peut être produit en série. Ce matériau (1) comprend une structure capable de déformation lamellaire en même temps que de déformation plastique. Dans cette structure capable de déformation lamellaire, une couche (2) comprend un élément du groupe 2A, 3A ou 4A, ou un alliage ou un composé contenant au moins un élément des groupes 2A, 3A et 4A, les couches (3) en contact avec la couche (2) comprenant un élément du groupe 6A, 7A ou 8A, ou un alliage ou un composé contenant au moins un élément des groupes 6A, 7A et 8A.
Designated States: CA, JP, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)