WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
PATENTSCOPE will be unavailable a few hours for maintenance reason on Saturday 18.08.2018 at 9:00 AM CEST
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2001004931) METHOD AND APPARATUS FOR PROVIDING UNIFORM GAS DELIVERY TO SUBSTRATES IN CVD AND PECVD PROCESSES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2001/004931 International Application No.: PCT/US2000/040314
Publication Date: 18.01.2001 International Filing Date: 06.07.2000
Chapter 2 Demand Filed: 10.01.2001
IPC:
C23C 16/44 (2006.01) ,C23C 16/455 (2006.01)
Applicants: GENUS, INC.[US/US]; 1139 Karlstad Drive Sunnyvale, CA 94089, US
Inventors: DUNHAM, Scott, William; US
Agent: BOYS, Donald, R.; P.O. Box 187 Aromas, CA 95004, US
Priority Data:
09/350,41708.07.1999US
Title (EN) METHOD AND APPARATUS FOR PROVIDING UNIFORM GAS DELIVERY TO SUBSTRATES IN CVD AND PECVD PROCESSES
(FR) PROCEDE ET APPAREIL DE DISTRIBUTION DE GAZ UNIFORME A DES SUBSTRATS, PAR DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR ET PAR DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR ACTIVE PAR PLASMA
Abstract:
(EN) Showerhead diffuser (9) has a first channel region (11) having first plural independent radially-concentric channels (23) and individual gas supply ports (17) from a first side to individual one of the first channels (23), a second channel region (15) having second plural independent radially-concentric channels (27) and a pattern of diffusion passages (31) from the second channels (27) to a second side, and a transition region (13) between the first channel region (11) and the second channel region (15) having at least one transition gas passage (25) for communicating gas from each first channel (23) in the first region to a corresponding second channel (27) in the second region. The showerhead is mounted to a chamber such that the first side faces away from the reactor chamber and the second side opens into the reactor chamber. Supply ports (17), transition passages (25), and diffusion passages (31) into the chamber do not align, and there is a special plasma-quenching ring (29) in each of the second channels.
(FR) L'invention concerne un appareil diffuseur de type pomme de douche, utilisé pour un dépôt chimique en phase vapeur, qui comprend: une première région de canaux comportant une première pluralité de canaux radialement concentriques indépendants et des orifices d'alimentation en gaz individuels s'étendant depuis un premier côté de l'appareil jusqu'à ceux des premiers canaux; une seconde région de canaux comportant une seconde pluralité de canaux radialement concentriques indépendants et un motif de passages de diffusion s'étendant depuis les seconds canaux vers un second côté de l'appareil; et une région de transition située entre la première région de canaux et la seconde région de canaux, qui comporte au moins un passage de gaz de transition afin de transmettre le gaz depuis chaque premier canal de la première région vers un second canal correspondant de la seconde région. L'appareil de type pomme de douche comprend une interface joint hermétique, qui permet de fixer l'appareil pomme de douche à une chambre de réaction par dépôt chimique en phase vapeur, de telle manière que le premier côté et les orifices d'alimentation soient opposés à la chambre de réaction et au second côté, et que les motifs des passages de diffusion depuis les seconds canaux s'ouvrent dans la chambre de réaction. De préférence, les orifices de distribution, les passages de transition et les passages de diffusion situés dans la chambre ne sont pas alignés et un noyau spécial de désactivation du plasma est situé dans chacun des seconds canaux, de manière à empêcher l'allumage du plasma à l'intérieur des canaux de la pomme de douche. L'invention concerne également des procédés et systèmes utilisant ladite pomme de douche.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)