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1. (WO2001003532) HEADWEAR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2001/003532 International Application No.: PCT/AU2000/000823
Publication Date: 18.01.2001 International Filing Date: 10.07.2000
IPC:
A42B 1/20 (2006.01) ,A42B 1/24 (2006.01) ,G09F 21/02 (2006.01)
Applicants: CHANGWOON, Yang[KR/AU]; AU
Inventors: CHANGWOON, Yang; AU
Priority Data:
PQ 159212.07.1999AU
Title (EN) HEADWEAR
(FR) COUVRE-CHEF
Abstract: front page image
(EN) A hat (10) is formed as a single sheet itself-supportive, resilient material. The hat (10) includes a brim (11) and an aperture (12) defined as a number of hinge lines (12') forming a substancially oval-shaped aperture. From each hinge line (12') their extends and inwardly projecting finger (13). Each finger (13) is separated from the finger at either side thereof by a cut-line (15). The angular orientation of each cut-line (15) is chosen so as to ensure that no cut-line resides along the central longitudinal access of the hat from front to back.
(FR) L'invention concerne un chapeau formé d'une seule feuille de matériau souple autonome. Le chapeau (10) présente un bord (11), et une ouverture (12) découpée en plusieurs lignes d'articulation (12') formant une ouverture sensiblement ovale. Chaque ligne d'articulation (12') est prolongée d'un doigt (13) saillant vers l'intérieur. Chaque doigt (13) est séparé des doigts qui le flanquent par une ligne de rupture (15). L'orientation angulaire de chaque ligne de rupture est choisie de façon à assurer qu'aucune ligne ne soit placée le long de l'accès longitudinal central du chapeau de l'avant à l'arrière.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)