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1. (WO2001003165) SPIN, RINSE, AND DRY STATION WITH ADJUSTABLE NOZZLE ASSEMBLY FOR SEMICONDUCTOR WAFER BACKSIDE RINSING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2001/003165 International Application No.: PCT/US2000/017923
Publication Date: 11.01.2001 International Filing Date: 28.06.2000
Chapter 2 Demand Filed: 22.01.2001
IPC:
H01L 21/00 (2006.01)
Applicants: LAM RESEARCH CORPORATION[US/US]; 4650 Cushing Parkway Fremont, CA 94538, US
Inventors: WONG, Larry, Ping-Kwan; US
Agent: MARTINE, Peter, B.; Martine Penilla & Kim, LLP 710 Lakeway Drive Suite 170 Sunnyvale, CA 94086, US
Priority Data:
09/345,39801.07.1999US
09/401,74223.09.1999US
Title (EN) SPIN, RINSE, AND DRY STATION WITH ADJUSTABLE NOZZLE ASSEMBLY FOR SEMICONDUCTOR WAFER BACKSIDE RINSING
(FR) POSTE DE ROTATION, RINÇAGE ET SECHAGE A ENSEMBLE BUSES REGLABLES POUR RINÇAGE DE VERSO D'UNE PLAQUETTE DE SEMI-CONDUCTEUR
Abstract: front page image
(EN) A nozzle assembly (116) includes a connector tube (128) having a first end and a second end. An outer surface of the connector tube (128) is threaded. A first cap (132a) having an opening therethrough is threaded onto the first end of the connector tube (128). A second cap (132b) having an opening therethrough is threaded onto the second end of the connector tube (128). Each of the first and second caps has a top surface and a threaded inner surface. The nozzle assembly further includes a nozzle (134) having a tubular portion (134b) defining a channel (134a). The tubular portion (134b) is disposed in the opening of the first connector cap (132a) so that a position of the nozzle (134) can be axially and rotationally adjusted. A spin, rinse, and dry station including the adjustable nozzle assembly and a method for spin rinsing the bottom side, i.e., the backside, of a semiconductor wafer also are described.
(FR) L'invention concerne un ensemble buses (116) comprenant un tuyau (128) de raccordement pourvu d'une première extrémité et d'une seconde extrémité. Une surface extérieure du tuyau (128) de raccordement est filetée. Un premier capuchon (132a) pourvu d'une ouverture est filetée à l'intérieure de la première extrémité du tuyau (128) de raccordement. Un second capuchon (132b) pourvu d'une ouverture est fileté à l'intérieur de la seconde extrémité du tuyau (128) de raccordement. Chacune des extrémités présente une surface supérieure et une surface intérieure filetée. L'ensemble buse comprend également une buse (134) présentant une portion tubulaire (134b) définissant un canal (134a). Cette portion (134b) est située dans l'ouverture du premier capuchon (132a) du tuyau de raccordement de sorte qu'une position de la buse (134) puisse être réglée par rotation et par rapport à l'axe. L'invention concerne également un poste de rotation, rinçage et séchage comprenant un ensemble buses réglables et un procédé permettant la rotation et le rinçage du verso d'une plaquette de semi-conducteur.
Designated States: AU, CA, IL, JP, KR, SG
European Patent Office (EPO) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)