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1. (WO2001002106) CHEMICAL SOLUTIONS SYSTEM FOR PROCESSING SEMICONDUCTOR MATERIALS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2001/002106 International Application No.: PCT/US2000/018426
Publication Date: 11.01.2001 International Filing Date: 05.07.2000
Chapter 2 Demand Filed: 24.01.2001
IPC:
H01L 21/00 (2006.01)
Applicants: SEMITOOL, INC.[US/US]; 655 West Reserve Drive Kalispell, MT, US
Inventors: DOLECHEK, Kert; US
Agent: OHRINER, Kenneth, H. ; Lyon & Lyon LLP Suite 4700 633 West Fifth Street Los Angeles, CA 90071-2066, US
Priority Data:
60/142,74006.07.1999US
Title (EN) CHEMICAL SOLUTIONS SYSTEM FOR PROCESSING SEMICONDUCTOR MATERIALS
(FR) SYSTEME DE SOLUTIONS CHIMIQUES POUR LE TRAITEMENT DE MATERIAUX A SEMI-CONDUCTEURS
Abstract: front page image
(EN) A semiconductor processing system (30) has a liquid chemical and metering system (60) including a process tank (80) and a metering vessel (102). Fluid level detectors (104) detect the fluid level in the process tank (80) and metering vessel (102). A two stage fill valve (106) fills the metering vessel (102) from bottom to top. A dispense valve (108) dispenses the metered contents into a process tank (80) via gravity, to form a chemical solution in the process tank (80), with high mixing accuracy. The volumes of metering vessel (102) and process tank (80) and inflow and outflow rates are set to provide 100 % up time to a process chamber (38) which uses the chemical solution to process semiconductors or other flat media.
(FR) L'invention concerne un système de traitement de semi-conducteurs (30) qui présente un dispositif de mesure et de distribution (60) de produits chimiques liquides comprenant un réservoir de traitement (80) et un réservoir de dosage (102). Des détecteurs de niveau de liquide (104) détectent le niveau de liquide dans le réservoir de traitement (80) et le réservoir de dosage (102). Un robinet de remplissage à deux étages (106) remplit le réservoir de dosage (102) de bas en haut. Une soupape de distribution (108) distribue, par gravité, les contenus mesurés du réservoir dans un réservoir de traitement (8) pour y former une solution chimique avec une grande précision de mélange. Les volumes du réservoir de dosage (102) et du réservoir de traitement (80) et les vitesses d'entrée et de sortie sont définies pour fournir des rapports de fonctionnement de 100 % à une chambre de traitement (38) qui utilise la solution chimique pour traiter des plaquettes à semi-conducteurs ou autres supports plats.
Designated States: CN, JP, KR, SG
European Patent Office (EPO) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)