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1. (WO2001001463) METHOD AND APPARATUS FOR DETECTING MARK, EXPOSURE METHOD AND APPARATUS, AND PRODUCTION METHOD FOR DEVICE AND DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/001463    International Application No.:    PCT/JP2000/004225
Publication Date: 04.01.2001 International Filing Date: 28.06.2000
Chapter 2 Demand Filed:    29.01.2001    
IPC:
G03F 9/00 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331 (JP) (For All Designated States Except US).
YOSHIDA, Kouji [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: YOSHIDA, Kouji; (JP)
Agent: TATEISHI, Atsuji; Paseo Building 5th Floor, 4-20, Haramachida 5-chome, Machida-shi, Tokyo 194-0013 (JP)
Priority Data:
11/182832 29.06.1999 JP
Title (EN) METHOD AND APPARATUS FOR DETECTING MARK, EXPOSURE METHOD AND APPARATUS, AND PRODUCTION METHOD FOR DEVICE AND DEVICE
(FR) PROCEDE ET APPAREIL POUR DETECTER UN REPERE, PROCEDE ET APPAREIL D'EXPOSITION, PROCEDE DE PRODUCTION DU DISPOSITIF ET DISPOSITIF
Abstract: front page image
(EN)With an attention paid to a specified area having characteristic surface conditions in a mark formed area or its surrounding area, an area computing apparatus (33) computes, while scanning a window with a width reflecting the specified area over the entire measuring area, characteristic quantities based on measured signals in the window. And, it specifies the position of measured signal area reflecting the specified area based on the positional distribution of the computed characteristic quantities to thereby extract a measured signal area reflecting a mark. A position computing apparatus (35) performs such operations as pattern matching in the extracted signal area, whereby a mark position is detected quickly and accurately.
(FR)En accordant une attention particulière à une zone spécifiée présentant des états de surface caractéristiques dans une zone à repère ou dans la zone l'entourant, un appareil de calcul de surface (33) calcule, alors qu'il balaye une fenêtre d'une largeur reflétant la zone spécifiée sur la totalité de la zone de mesure, des quantités caractéristiques en fonction de signaux mesurés dans ladite fenêtre. Il spécifie ensuite la position de la zone du signal mesuré, reflétant la zone spécifiée en fonction de la répartition positionnelle des quantités caractéristiques calculées, pour extraire ainsi une zone de signal mesuré reflétant un repère. Un appareil de calcul de position (35) effectue des opérations comme le filtrage dans la zone du signal extrait, la position d'un repère étant ainsi détectée rapidement et avec précision.
Designated States: AE, AL, AU, BA, BB, BG, BR, BZ, CA, CN, CR, CU, CZ, DM, DZ, EE, GD, GE, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KP, KR, LC, LK, LR, LT, LV, MA, MG, MK, MN, MX, NO, NZ, PL, RO, SG, SI, SK, TR, TT, UA, US, UZ, VN, YU, ZA.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)