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1. (WO2001000906) BATH COMPOSITION FOR ELECTROPOLISHING OF TITANIUM AND METHOD FOR USING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/000906    International Application No.:    PCT/FR2000/001694
Publication Date: 04.01.2001 International Filing Date: 20.06.2000
Chapter 2 Demand Filed:    11.01.2001    
IPC:
C25F 3/26 (2006.01)
Applicants: ORGANISATION EUROPEENNE POUR LA RECHERCHE NUCLEAIRE (CERN) [CH/CH]; CH-1211 Genève 23 (CH) (For All Designated States Except US).
GUERIN, Jean [FR/FR]; (FR) (For US Only)
Inventors: GUERIN, Jean; (FR)
Agent: GORREE, Jean-Michel; Cabinet Plasseraud, 84, rue d'Amsterdam, F-75440 Paris Cedex 09 (FR)
Priority Data:
99/08151 25.06.1999 FR
Title (EN) BATH COMPOSITION FOR ELECTROPOLISHING OF TITANIUM AND METHOD FOR USING SAME
(FR) COMPOSITION DE BAIN POUR LE POLISSAGE ELECTROLYTIQUE DU TITANE, ET SON PROCEDE D'UTILISATION
Abstract: front page image
(EN)The invention concerns a bath composition for electropolishing of a non-alloyed titanium metal surface, characterised in that it comprises: sulphuric acid (95 to 98 % solution): 20 to 40 % in volume; hydrofluoric acid (40 to 48 % solution): 10 to 18 % in volume; acetic acid ( 90 to 100 % solution): 42 to 62 % in volume, capable of modifying the electrochemical balances at the solution-metal interface, the acetic acid enabling a better control of oxidation and dissolution of the titanium surface and to automatically limit the chemical dissolution of the metal surface.
(FR)Composition de bain pour le polissage électrolytique d'une surface métallique en titane non allié, caractérisée en ce qu'elle comprend: de l'acide sulfurique (solution 95 à 98 %): 20 à 40 % vol.; de l'acide fluorhydrique (solution 40 à 48 %): 10 à 18 % vol.; et de l'acide acétique (solution 90 à 100 %): 42 à 62 % vol.; propre à modifier les équilibres électrochimiques à l'interface solution-métal, l'acide acétique permettant de mieux contrôler l'oxydation et la dissolution de la surface de titane et de conduire à une auto-limitation de la dissolution chimique de la surface métallique.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)