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1. (WO2001000744) ABRASIVE COMPOUND FOR GLASS HARD DISK PLATTER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2001/000744    International Application No.:    PCT/JP2000/004172
Publication Date: 04.01.2001 International Filing Date: 26.06.2000
Chapter 2 Demand Filed:    08.12.2000    
IPC:
C03C 19/00 (2006.01), C09K 3/14 (2006.01)
Applicants: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kandanishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 101-0054 (JP) (For All Designated States Except US).
OTA, Isao [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NISHIMURA, Tohru [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TANIMOTO, Kenji [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: OTA, Isao; (JP).
NISHIMURA, Tohru; (JP).
TANIMOTO, Kenji; (JP)
Agent: HANABUSA, Tsuneo; Hanabusa Patent Office, Ochanomizu Square B, 6, Kandasurugadai 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 101-0062 (JP)
Priority Data:
11/181449 28.06.1999 JP
Title (EN) ABRASIVE COMPOUND FOR GLASS HARD DISK PLATTER
(FR) COMPOSE ABRASIF POUR PLATEAU EN VERRE DE DISQUE DUR
Abstract: front page image
(EN)An abrasive compound for a glass hard disk platter, characterized as comprising a stable slurry having water and, dispersed therein as an abrasive, cerium(IV) oxide particles having an average secondary particle size of 0.1 to 0.5 $g(m)m and containing CeO2 in a concentration of 0.2 to 30 wt %. Preferably, cerium accounts for 95 % or more in terms of oxides of the total amount of rare earth elements in the abrasive. The abrasive compound is suitable for polishing the surface of a glass substrate for an optical disk platter and a magnetic disk platter.
(FR)Cette invention concerne un composé abrasif pour plateau en verre de disque dur. Ce composé se caractérise en ce qu'il comprend une pâte épaisse stable renfermant de l'eau et, à l'état de dispersion pour l'abrasif, des particules d'oxyde de cérium (IV) d'une granulométrie secondaire moyenne comprise entre 0,1 et 0,5 $g(m)m, et contenant du CeO2 en concentration de 0,2 à 20 % en poids. Le cérium représente de préférence 95 % minimum en termes d'oxydes du volume total des éléments de terres rares présents dans l'abrasif. Le composé abrasif selon l'invention convient pour le polissage en surface d'un substrat en verre pour plateau de disque optique ou pour plateau de disque magnétique.
Designated States: US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)