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1. (WO2000064007) DETERMINING AND FORMING DELAYED WAVEFORMS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2000/064007    International Application No.:    PCT/US2000/009003
Publication Date: 26.10.2000 International Filing Date: 05.04.2000
Chapter 2 Demand Filed:    23.10.2000    
IPC:
H01Q 3/26 (2006.01), H01Q 3/40 (2006.01), H01Q 25/00 (2006.01)
Applicants: SONETECH CORPORATION [US/US]; 10 Commerce Park North, Unit 10, Bedford, NH 03110 (US)
Inventors: WOODSUM, Harvey, C.; (US).
HOGAN, William, L.; (US).
GAIDOS, John, A.; (US)
Agent: DAVIS, Anthony, G., M.; Davis and Bujold, Fourth Floor, 500 North Commercial Street, Manchester, NH 03101 (US)
Priority Data:
09/295,280 20.04.1999 US
09/295,278 20.04.1999 US
09/295,279 20.04.1999 US
09/295,281 20.04.1999 US
Title (EN) DETERMINING AND FORMING DELAYED WAVEFORMS
(FR) DETERMINATION ET FORMATION DE FORMES D'ONDES RETARDEES
Abstract: front page image
(EN)A method and system for determining and using beamform factors for forming beams. Maximum and minimum dependent beamform factors (26 B) of an optimum beam are determined from initial beamform factors and an initial parent population of chromosomes is generated, each chromosome including a gene correponding to a dependent beamform factor and representing an initial candidate beam and subsequent parent populations are generated. A child population (36c) is generated from a parent population by exchanging statistically selected pairs of genes of the parent population and generating a mutated population from the child population. A surviving population is selected from the mutated population by comparing the chromosomes of the mutated population with a fitness criteria and selecting the chromosomes of the mutated population. When a chromosome of the surviving population meets the solution criteria, the genes of the surviving population having the best match are selected to forming a beam.
(FR)L'invention concerne un procédé et un système de détermination et d'utilisation de facteurs de formation de faisceaux. On détermine des facteurs (26B), de dépendance maximale et minimale, de formation d'un faisceau optimal, à partir de facteurs initiaux de formation de faisceau, et on produit une population initiale parente de chromosomes, chacun contenant un gène correspondant à un facteur de formation de faisceau dépendant et représentant un faisceau candidat initial, des populations parentes ultérieures étant produites. On produit une population d'enfants (36c) à partir d'une population parente en échangeant des paires de gènes, choisies de manière statistique, dans la population parente, et en produisant une population mutée à partir de la population d'enfants. On choisit une population survivante à partir de la population mutée, en comparant les chromosomes de la population mutée avec un critère de forme physique et en choisissant les chromosomes de la population mutée. Lorsqu'un chromosome de la population survivante remplit le critère de solution, on choisit les gènes de la population survivante qui présentent la meilleure correspondance, afin de former un faisceau.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)