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1. (WO2000063958) IN SITU, CONTROLLED AMBIENT DEPOSITION OF ONO FOR APPLICATION TO FLASH EPROM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2000/063958    International Application No.:    PCT/US2000/009724
Publication Date: 26.10.2000 International Filing Date: 11.04.2000
Chapter 2 Demand Filed:    14.11.2000    
IPC:
H01L 21/28 (2006.01)
Applicants: ADVANCED MICRO DEVICES, INC. [US/US]; One AMD Place, Mail Stop 68, Sunnyvale, CA 94088-3453 (US)
Inventors: OGLE, Robert, Bertram, Jr.; (US).
HALLIYAL, Arvind; (US)
Agent: PITRUZZELLA, Vincenzo, D.; Advanced Micro Devices, Inc., One AMD Place, Mail Stop 68, Sunnyvale, CA 94088-3453 (US).
PICKER, Madeline M.; Brookes and Martin, "Association No 14", High Holborn House, 52/54 High Holborn, London WC1V 6SE (GB)
Priority Data:
09/293,354 16.04.1999 US
Title (EN) IN SITU, CONTROLLED AMBIENT DEPOSITION OF ONO FOR APPLICATION TO FLASH EPROM
(FR) DEPOT IN SITU AVEC ENVIRONNEMENT CONTROLE D'ONO DESTINE A L'APPLICATION A LA MEMOIRE FLASH EPROM
Abstract: front page image
(EN)An integrated circuit manufacturing process and the product formed thereby for an interpoly dielectric used in floting gate memory devices such as Flash EPROM provides for scaling down in dielectric thickness without lowering yield. The use of a cluster deposition system for the ONO layers of the interpoly dielectric lowers the amount of carbon-based residue on the dielectric layers and lowers the leakage current.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication de circuit intégré et le produit formé au moyen de ce procédé destiné à un diélectrique interpoly utilisé dans des dispositifs mémoire à grille flottante tels que Flash EPROM, le procédé permettant de réduire l'épaisseur du diélectrique sans diminuer le rendement. L'utilisation d'un système de dépôt en grappes pour les couches ONO du diélectrique interpoly réduit la quantité de résidu à base de carbone sur les couches diélectriques et abaisse le courant de fuite.
Designated States: JP, KR.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)