WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2000062324) SYSTEM AND METHOD TO CORRECT FOR DISTORTION CAUSED BY BULK HEATING IN A SUBSTRATE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2000/062324    International Application No.:    PCT/US2000/010038
Publication Date: 19.10.2000 International Filing Date: 12.04.2000
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G06F 19/00 (2006.01), H01J 37/147 (2006.01), H01J 37/30 (2006.01), H01J 37/305 (2006.01), H01J 37/317 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: ETEC SYSTEMS, INC. [US/US]; 26460 Systems, Inc., Hayward, CA 94545 (US)
Inventors: CHILESE, Francis, C.; (US).
SHAMOUN, Bassam; (US).
TROST, David; (US)
Agent: BEERNADICOU, Michael, A.; Blakely, Sokoloff, Taylor & Zafman, LLP 7th Floor, 12400 Wilshire Boulevard, Los Angeles, CA 90025 (US)
Priority Data:
09/291,167 13.04.1999 US
Title (EN) SYSTEM AND METHOD TO CORRECT FOR DISTORTION CAUSED BY BULK HEATING IN A SUBSTRATE
(FR) SYSTEME ET PROCEDE DE CORRECTION DE LA DISTORSION PROVOQUEE PAR UN CHAUFFAGE DE MASSE DANS UN SUBSTRAT
Abstract: front page image
(EN)An electron beam writing system includes an electron beam patterning machine operable to emit an electron beam to form a pattern on a substrate. A computer control system, coupled to the electron beam patterning machine, has a plurality of pre-computed distortion maps. Each distortion map describes expected distortions of the substrate caused by bulk heating resulting from exposure to the electron beam. The computer control system controls the electron beam patterning machine using the distortion maps in order to adjust for the expected distortions.
(FR)L'invention concerne un système d'écriture à faisceau électronique comprenant une machine de formation de motifs par faisceau électronique permettant d'émettre un faisceau électronique qui esquisse un motif sur un substrat. Un système de commande informatique, couplé à une machine de formation de motifs par faisceau électronique, présente une pluralité de cartes de distorsions précalculées. Chaque carte décrit les distorsions que le substrat peut subir en raison de la chaleur de masse à la suite de l'exposition au faisceau électronique. Le système de commande informatique commande la machine de formation de motifs grâce aux cartes de distorsion de manière à régler les distorsions attendues.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)