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1. (WO2000062314) MICROSOLENOID COIL AND ITS MANUFACTURING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2000/062314    International Application No.:    PCT/JP2000/002407
Publication Date: 19.10.2000 International Filing Date: 13.04.2000
Chapter 2 Demand Filed:    07.11.2000    
IPC:
H01F 17/00 (2006.01), H01F 41/04 (2006.01)
Applicants: NISHI, Takashi [JP/JP]; (JP)
Inventors: NISHI, Takashi; (JP)
Agent: NAKANO, Yoshinao; 466-47, Tagucho, Ushiku-shi, Ibaraki 300-1236 (JP)
Priority Data:
11/155546 14.04.1999 JP
11/170062 27.04.1999 JP
Title (EN) MICROSOLENOID COIL AND ITS MANUFACTURING METHOD
(FR) BOBINE DE MICROSOLENOIDE ET PROCEDE DE FABRICATION
Abstract: front page image
(EN)A photosensitive material is applied to an insulating material (13) deposited on a substrate (1) (Figure 16A). The photosensitive material is exposed to light using a mask having an annular light-shielding film so devised that the amount of light transmitted through the film is controlled continuously from 100% to 0% and the exposed film is developed (Figure 16B) to form a spiral photosensitive material. After a high-temperature treatment, the insulating material under the photosensitive material is etched back into a spiral shape (Figure 16C). A metal (12) is deposited on the substrate (Figure 16D) and then a photosensitive material is applied (Figure 16E). Exposure and development are conducted using a mask having an annular light-shielding film the amount of light transmitted through which is 0%, and the photosensitive material covering only the metal on the base of the spiral structure (Figure 16F) is left. After a high-temperature treatment, the exposed metal is etched (Figure 16G), and the photosensitive material is removed (Figure 16H).
(FR)L'invention concerne l'application de matériau photosensible sur un matériau isolant (13) déposé sur un substrat (1) (figure 16A). Le matériau photosensible est exposé à la lumière au moyen d'un masque équipé d'un film écran annulaire de masquage de la lumière conçu de manière à contrôler en continu la quantité de lumière transmise à travers le film, de 100 % à 0 %, puis le film exposé est développé (figure 16B) de façon à donner un matériau photosensible en forme de spirale. Après un traitement à haute température, le matériau isolant placé sous le matériau photosensible est attaqué de manière à retrouver sa forme de spirale (figure 16C). Un métal (12) est déposé sur le substrat (figure 16D), puis un matériau photosensible est appliqué (figure 16E). L'exposition et le développement sont conduits avec un masque équipé d'un film écran annulaire de masquage de la lumière à travers lequel le pourcentage de lumière transmise est de 0 %, et le matériau photosensible couvrant seulement le métal sur la base de la forme en spirale (figure 16F) est laissé en place. Après un traitement à haute température, le matériau exposé est attaqué (figure 16G), et le matériau photosensible est retiré (figure 16H).
Designated States: AU, CA, CN, ID, IL, IN, KR, MX, RU, SG, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)