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1. (WO2000060653) PLASMA TREATMENT DEVICE, ITS MAINTENANCE METHOD AND ITS INSTALLATION METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2000/060653    International Application No.:    PCT/JP2000/001939
Publication Date: 12.10.2000 International Filing Date: 29.03.2000
Chapter 2 Demand Filed:    01.09.2000    
IPC:
H01J 37/32 (2006.01), H01L 21/00 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 107-8481 (JP) (For All Designated States Except US).
HIROOKA, Takaaki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: HIROOKA, Takaaki; (JP)
Agent: KAMEYA, Yoshiaki; Shinjuku Akebonobashi Building, 1-12, Sumiyoshicho, Shinjuku-ku, Tokyo 162-0065 (JP)
Priority Data:
11/88153 30.03.1999 JP
Title (EN) PLASMA TREATMENT DEVICE, ITS MAINTENANCE METHOD AND ITS INSTALLATION METHOD
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA, PROCEDE DE MAINTENANCE ET PROCEDE D'INSTALLATION DUDIT DISPOSITIF
Abstract: front page image
(EN)An upper electrode unit (103) which the upper wall of the treatment chamber (102) of an etching device (100), and forms which comprises a first assembly (202) including an upper electrode (124), a second assembly (204) supporting the first assembly (202) and a third assembly (206) including power supply routes (178 and 172). After a second locking mechanism (150) is released and the third assembly (206) is independently removed by a removing mechanism (208), the first assembly (202) is removed and the maintenance of the upper electrode (124) is practiced. After the second locking mechanism (150) is fixed and a first locking mechanism (200) is released, the second and third assemblies (204 and 206) are removed by the removing mechanism (208) and the inside of the treatment chamber (102) is opened for maintenance. By this construction, a plasma treatment device and its maintenance method which facilitate maintenance and relieve a worker from a heavy burden can be provided.
(FR)Selon l'invention, une unité d'électrodes supérieure (103) formant la paroi supérieure de la chambre de traitement (102) d'un dispositif de gravure (100) comprend un premier ensemble (202) muni d'une électrode supérieure (124), un deuxième ensemble (204) servant de support au premier ensemble (202), et un troisième ensemble (206) incluant des trajets d'approvisionnement en énergie (172 et 178). Une fois libéré un deuxième mécanisme de verrouillage (150), et après qu'un troisième ensemble (206) soit retiré de façon indépendante par un mécanisme de retrait (208), le premier ensemble (202) est retiré et l'entretien de l'électrode supérieure (124) est effectué. Après fixation du deuxième mécanisme de verrouillage (150) et libération d'un premier mécanisme de verrouillage (200) les deuxième et troisième ensembles (204 et 206) sont retirés par le mécanisme de retrait (208), et l'intérieur de la chambre de traitement (102) est ouvert pour entretien. Cette construction offre ainsi un dispositif de traitement au plasma et un procédé de maintenance qui facilitent l'entretien et soulagent un travailleur d'une charge fastidieuse.
Designated States: JP, KR, US.
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)