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1. (WO2000059515) IMMUNOMODULATING POLYMERS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2000/059515    International Application No.:    PCT/US2000/008586
Publication Date: 12.10.2000 International Filing Date: 31.03.2000
Chapter 2 Demand Filed:    28.09.2000    
IPC:
A61K 31/715 (2006.01), A61K 31/785 (2006.01), A61K 35/74 (2006.01), A61K 38/00 (2006.01), A61K 38/20 (2006.01), A61K 45/06 (2006.01)
Applicants: THE BRIGHAM AND WOMEN'S HOSPITAL, INC. [US/US]; 75 Francis Street, Boston, MA 02115 (US)
Inventors: TZIANABOS, Arthur, O.; (US).
KASPER, Dennis, L.; (US).
ONDERDONK, Andrew, B.; (US).
WANG, Ying; (US)
Agent: LOCKHART, Helen, C.; Wolf, Greenfield & Sacks, P.C., 600 Atlantic Avenue, Boston, MA 02210 (US)
Priority Data:
60/127,584 02.04.1999 US
60/162,457 29.10.1999 US
Title (EN) IMMUNOMODULATING POLYMERS
(FR) POLYMERES IMMUNOREGULATEURS
Abstract: front page image
(EN)Methods and products for inducing IL-2 secretion, inducing IL-10 secretion, activating T cells, suppressing IgG antibody response to specific antigen, promoting allograft survival, reducing postoperative surgical adhesion formation, and protecting against abscess formation associated with surgery, trauma or diseases that predispose the host to abscess formation are provided. The methods of the invention are accomplished using an immunomodulator which is a polymer having at least two repeating charge motifs separated by at least a certain minimum distance.
(FR)La présente invention concerne des techniques et des produits permettant d'induire une sécrétion IL-2, une sécrétion IL-10, d'activer les lymphocytes T, de supprimer la réponse de l'anticorps IgG à un antigène spécifique, de favoriser la survie des allogreffes, de réduire la formation d'adhérences postchirurgicales, et de protéger contre la formation d'abcès associée à la chirurgie, aux traumatismes ou aux maladies qui prédisposent à la formation d'abcès chez le patient. On réalise les techniques de cette invention en utilisant un immunorégulateur qui est un polymère possédant au moins deux motifs de charge répétés séparés au moins par une certaine distance minimum.
Designated States: AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CU, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)